特許
J-GLOBAL ID：200903079385744260
分子膜の製造方法および製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池内 寛幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-301527
公開番号（公開出願番号）：特開平10-180179
出願日： 1997年11月04日
公開日（公表日）： 1998年07月07日
要約：
【要約】【課題】少なくともシラン系化合物と溶媒からなる溶液を用いて基材とシラン系化合物間で脱離反応を起こさせてシロキサン結合を形成し、基材上に膜厚1μm以下0.1nm以上の範囲の分子膜を形成する。【解決手段】表面に活性水素を有する基材(2)の表面に、例えばクロロシラン系化合物を含む塗布溶液を塗布し、基材表面の活性水素と前記シラン系化合物のクロル基との間で脱塩化水素反応を起こさせ、基材表面にシラン系化合物を共有結合させる分子膜の製法において、低水蒸気濃度雰囲気状態に保持されているチャンバー(11)内に、前記基材を送り込み、転写装置(6,7)を用いて、前記基材の表面にシラン系化合物と溶媒とを含む塗布溶液を塗布し、前記基材表面の活性水素と前記シラン系化合物のクロル基との間で脱塩化水素反応を起こさせ、その後チャンバー内または外で前記塗布後の未反応塗布溶液を除去する。
請求項（抜粋）：
表面に活性水素を有する基材の表面に、少なくともクロル基、アルコキシ基及びイソシアネート基から選ばれる少なくとも一つの反応基を持つシラン系化合物を含む塗布溶液を塗布し、基材表面の活性水素と前記シラン系化合物の反応基との間で脱離反応を起こさせ、基材表面にシラン系化合物を共有結合させる分子膜の製造方法において、低水蒸気濃度雰囲気状態に保持されているチャンバー内に、前記基材を送り込み、転写装置を用いて、前記基材の表面にシラン系化合物と溶媒とを含む塗布溶液を塗布し、前記基材表面の活性水素と前記シラン系化合物の反応基との間で脱離反応を起こさせ、その後チャンバー内または外で前記塗布後の未反応塗布溶液を除去することを特徴とする分子膜の製造方法。
IPC (8件)：
B05D 1/28
, B01D 69/12
, B01D 71/70
, B05C 1/02 102
, B05D 1/32
, B05D 3/00
, B05D 7/24 302
, C03C 17/32
B05D 1/28
, B01D 69/12
, B01D 71/70
, B05C 1/02 102
, B05D 1/32 Z
, B05D 3/00 F
, B05D 7/24 302 Y
, C03C 17/32 D
