特許

J-GLOBAL ID：200903079404008715

焼成なし炭素ナノシート複合体の製造方法、並びに該方法により得られた複合体を用いた有機性汚染物質の除去方法及び除去剤

発明者： 王 正明 ,  劉 勇軍 ,  相澤 麻実 ,  羽鳥 浩章 ,  廣津 孝弘
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-226640
公開番号（公開出願番号）：特開2009-057252
出願日： 2007年08月31日
公開日（公表日）： 2009年03月19日
要約：

【課題】有機性環境汚染物質を取り除くための処理剤を、高効率で、かつ、簡便な調製手段により提供する。【解決手段】予め無機チタン塩をクエン酸と混合・撹拌して得られた溶液に、層状グラファイト酸化物又は層状グラファイト酸化物の分散液を混合し、混合物を90°C80分間還流し、これを100〜200°Cで水熱処理して有機性汚染物質除去剤として有用な酸化チタン導入炭素ナノシート複合体を得る。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

無機チタン塩とクエン酸とを混合・撹拌して得られた溶液と、グラファイト酸化物とを混合したのち、これを水熱処理することを特徴とする酸化チタン導入炭素ナノシート複合体の製造方法。

IPC (3件)：

C01B 31/04 ,  B01J 21/18 ,  B01J 35/02

FI (3件)：

C01B31/04 101Z ,  B01J21/18 M ,  B01J35/02 J

Fターム (25件)：

4G146AA02 ,  4G146AA16 ,  4G146AA28 ,  4G146AB07 ,  4G146AD17 ,  4G146AD32 ,  4G146AD35 ,  4G146AD40 ,  4G146BA02 ,  4G146BA08 ,  4G146CB10 ,  4G146CB11 ,  4G146CB19 ,  4G169AA06 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA08A ,  4G169BA08B ,  4G169CA17 ,  4G169DA05 ,  4G169FB06 ,  4G169HA12 ,  4G169HB02 ,  4G169HD06 ,  4G169HE05

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 多孔質グラファイト複合材料及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-392871   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
• グラファイト酸化物の層間拡張方法、及びそれを用いる含炭素多孔体複合材料の合成
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-004964   出願人：独立行政法人科学技術振興機構, 独立行政法人産業技術総合研究所
• グラファイト酸化物の層間に酸化チタンを含有してなる光触媒、及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-098907   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
• 炭素ナノシート複合体の製造方法、並びに該方法により得られた複合体を用いた有機性汚染物質の除去方法及び除去剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-107467   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所