特許
J-GLOBAL ID:200903079450694429

研磨剤スラリの再利用方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 重野 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-076027
公開番号(公開出願番号):特開2000-263441
出願日: 1999年03月19日
公開日(公表日): 2000年09月26日
要約:
【要約】【課題】 半導体製造工程等から回収された使用済研磨剤スラリに水や研磨剤スラリの新液を加えて、使用に適した濃度の研磨剤スラリを必要量調製して再利用する。【解決手段】 所定量の研磨剤スラリを回収して調製槽2に導入し、この研磨剤スラリの濃度を計測し、この計測結果及び研磨剤スラリの目標濃度及び目標調製量に基いて回収研磨剤スラリに対し添加すべき水及び/又は新液の量を決定し、この決定量の水及び/又は新液を調製槽2に供給して再利用する研磨剤スラリの再利用方法。回収した研磨剤スラリの受槽1と、調製槽2と、受槽1から所定量の研磨剤スラリを調製槽2に移送する手段と、調製槽2内の研磨剤スラリの濃度の検出手段6と、この検出手段6の検出結果と目標濃度及び目標調製量に応じて水及び/又は新液を調製槽2に添加する手段と、調製槽2内の研磨剤スラリを送り出す手段とを備えてなる研磨剤スラリの再利用装置。
請求項(抜粋):
使用済みの研磨剤スラリを回収し、新液(未使用研磨剤スラリ)及び/又は水を添加して所定濃度の研磨剤スラリを所定量調製して再利用する方法であって、所定量の回収した研磨剤スラリを調製槽に導入し、該研磨剤スラリの濃度を計測し、この計測結果及び研磨剤スラリの目標濃度及び目標調製量に基いて回収研磨剤スラリに対し添加すべき水及び/又は新液の量を決定し、この決定量の水及び/又は新液を前記調製槽に供給し、その後該調製槽内の研磨剤スラリを再利用することを特徴とする研磨剤スラリの再利用方法。
IPC (3件):
B24B 57/02 ,  B24B 37/00 ,  H01L 21/304 622
FI (3件):
B24B 57/02 ,  B24B 37/00 K ,  H01L 21/304 622 E
Fターム (8件):
3C047GG14 ,  3C047GG19 ,  3C058AA07 ,  3C058AC04 ,  3C058BA07 ,  3C058BA09 ,  3C058BB04 ,  3C058DA02
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (6件)
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