特許
J-GLOBAL ID：200903079469171214

ケイ素系正孔輸送材の製造方法

発明者：
櫛引 信男

櫛引 信男 について

, 
竹内 貴久子

竹内 貴久子 について


出願人/特許権者：
ダウ コーニング アジア株式会社

ダウ コーニング アジア株式会社 について


代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-287634
公開番号（公開出願番号）：特開平9-127710
出願日： 1995年11月06日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：
【要約】【課題】 ポリシロキサン樹脂に電荷輸送能を与えるための、この樹脂に対して溶解可能な正孔輸送材の製法を提供する。【解決手段】 芳香族基を有する3級アミンであって、イオン化ポテンシャルが4.5〜6.2eVである正孔輸送性化合物の該芳香族基の芳香環上において炭化水素基を介してアルコキシシリル基を導入し、下記一般式(1)で示されるケイ素系正孔輸送材を製造する。A-〔R1 SiR2 3-n Qn 〕p (1)(Aは芳香族基を有する3級アミンであってイオン化ポテンシャルが4.5〜6.2eVである正孔輸送性化合物から誘導される有機基;R1 は炭素数1〜6のアルキレン基;R2 はハロゲンを有することのある炭素数1〜15の1価の炭化水素基;R3 は炭素数1〜6のアルキル基;nは1〜3の整数;pは1〜3の整数。)
請求項（抜粋）：
複数の芳香族基を有する芳香族置換3級アミンであって、イオン化ポテンシャルが4.5〜6.2eVである正孔輸送性化合物の該芳香族基の内の少なくとも1つ、の芳香環上において炭化水素基を介して加水分解性基を有するシリル基を導入することを特徴とする下記一般式(1)で示されるケイ素系正孔輸送材の製造方法。A-〔R1 SiR2 3-n Qn 〕p (1)(ここに、Aは複数の芳香族基を有する芳香族置換3級アミンであってイオン化ポテンシャルが4.5〜6.2eVである正孔輸送性化合物から誘導された有機基を表し、R1 は炭素数1〜18のアルキレン基、R2 はハロゲンを有することのある炭素数1〜15の1価の炭化水素基、Qは加水分解性基、nは1〜3の整数、pは1〜3の整数である。)
IPC (5件)：
G03G 5/06 312 ,  C07F 7/18 ,  C08L 83/04 ,  G03G 5/07 103 ,  C08G 77/04 NUA
FI (5件)：
G03G 5/06 312 ,  C07F 7/18 M ,  C08L 83/04 ,  G03G 5/07 103 ,  C08G 77/04 NUA
引用特許：
審査官引用 (18件)
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