特許
J-GLOBAL ID:200903079506710074

拡散シミュレーション装置および拡散シミュレーション方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高田 守 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-091486
公開番号(公開出願番号):特開2000-286203
出願日: 1999年03月31日
公開日(公表日): 2000年10月13日
要約:
【要約】【課題】 任意の独立変数の数を設定可能な従来の拡散シミュレーション装置は、実際の各々の拡散工程のシミュレーションに、同一の独立変数の数のシミュレーション装置しか適用できないため、高精度であるが計算時間がかかるシミュレーションか、計算時間は短いが精度の悪いシミュレーションのいずれかしか選択できない。【解決手段】 任意の独立変数の数を設定可能な拡散シミュレーション装置において、独立変数の数の異なる各々の拡散シミュレーション装置の間での変数変換手段を設けることによって、実際の各々の拡散工程のシミュレーションに、任意の独立変数の数の拡散シミュレーション装置を用いることを可能にする拡散シミュレーション装置及び拡散シミュレーション方法。
請求項(抜粋):
半導体基板中の各種濃度分布を計算する拡散シミュレーション装置であって、独立変数の数が異なる複数の拡散モデルを記述する手段と、前記複数の拡散モデルのそれぞれに対応した偏微分方程式を発生させる手段と、前記偏微分方程式を解いて濃度分布の計算結果を求める手段と、前記複数の拡散モデルのそれぞれに対応する計算結果を、独立変数の異なる拡散モデルに対応するデータに変換する変換手段と、を備えることを特徴とする拡散シミュレーション装置。
IPC (2件):
H01L 21/22 ,  H01L 21/00
FI (2件):
H01L 21/22 Z ,  H01L 21/00
引用特許:
審査官引用 (2件)

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