特許
J-GLOBAL ID：200903079556275433

プラズマ処理装置

発明者：
石井 信雄

石井 信雄 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-165874
公開番号（公開出願番号）：特開平11-339997
出願日： 1998年05月30日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：
【要約】【課題】 アンテナ部材を効率的に冷却してアンテナ部材の変形等を防止するようにしたプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 マイクロ波発生器86にて発生したマイクロ波を、導波管88を介して平面アンテナ部材62に導き、これよりマイクロ波透過窓60を介して被処理体Wをプラズマ処理する処理容器22内にマイクロ波を導入するプラズマ処理装置において、前記平面アンテナ部材の近傍に冷却空間70,78を形成し、この冷却空間内に前記平面アンテナ部材を冷却する冷媒を流す。これにより、アンテナ部材を冷却してこの熱変形を防止する。
請求項（抜粋）：
マイクロ波発生器にて発生したマイクロ波を、導波管を介して平面アンテナ部材に導き、これよりマイクロ波透過窓を介して被処理体をプラズマ処理する処理容器内にマイクロ波を導入するプラズマ処理装置において、前記平面アンテナ部材の近傍に冷却空間を形成し、この冷却空間内に前記平面アンテナ部材を冷却する冷媒を流すように構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (6件)：
H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  C23C 14/34 ,  C23C 16/50
FI (6件)：
H05H 1/46 C ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/205 ,  C23C 14/34 L ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/302 B
引用特許：
審査官引用 (8件)
  • 特開平3-191073
  • 特開平3-068771
  • プラズマ処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-248767   出願人：東京エレクトロン株式会社
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