特許
J-GLOBAL ID：200903079603275846
金属ベースを有する発光ダイオードの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-081218
公開番号（公開出願番号）：特開2005-268642
出願日： 2004年03月19日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：
【課題】 従来の発光ダイオードにおける不都合を回避でき、工程の歩留まりを高め、製造工程を簡略化するとともに、発光ダイオードの熱放散性を向上し、静電気放電による破壊から発光ダイオードを保護できる発光ダイオードの形成方法を提供する。【解決手段】 本発明においては、臨時ベース、エピタキシャル層及び第一電極層を有する構造に、金属永久ベースを形成し、前記臨時ベースを除去し、この構造を分割し、複数の発光ダイオードを形成する。【選択図】 図3J
請求項（抜粋）：
臨時ベースを提供するステップと、
前記臨時ベース上に、エピタキシャル層及び第一電極層を順に形成するステップと、
前記第一電極層上に、金属の永久ベースを形成するステップと、
前記発光ダイオードのエピタキシャル層の表面を露出するように、前記臨時ベースを除去するステップと、
前記発光ダイオードのエピタキシャル層の前記表面上に複数の第二電極を形成するステップと、
前記金属の永久ベース、前記第一電極層及び前記発光ダイオードのエピタキシャル層を分割するステップと、
を含むことを特徴とする金属ベースを有する発光ダイオードの形成方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
5F041AA04
, 5F041AA33
, 5F041AA43
, 5F041CA76
, 5F041CA98
