プラズマ処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：吉武賢次 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-129527
公開番号（公開出願番号）：特開2002-016052
出願日： 2001年04月26日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
要約：

【要約】【課題】処理容器内に一様なプラズマを発生させることができ、従って大口径のウエハであっても一様な処理をおこなうことができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】このプラズマ処理装置は、内部に載置台10を有する処理容器4と、この処理容器4の上部開口を覆うガラス板8と、マイクロ波供給手段50と、一端側がこのマイクロ波供給手段50に接続され、内導体52Bと外導体52Aとを有する同軸導波管52と、この同軸導波管52の外導体52Aの他端側に接続され、この外導体52Aの他端から半径方向外方に拡張した後、下方へ延出したラジアル導波箱54と、このラジアル導波箱54の下端開口を覆い、その中心部に内導体52Bの他端部が接続された円盤状アンテナ部材60と、円盤状アンテナ部材60の内導体52Bが接続されている部分の反対側に、処理容器4内壁で反射してくる電界を反射する金属製の反射体64を設けている。

請求項（抜粋）：

有底筒状に形成され、その内部に被処理体を載置する載置台を有する処理容器と、この処理容器の上部開口を気密に覆う誘電体からなる蓋体と、マイクロ波を供給するマイクロ波供給装置と、一端側がこのマイクロ波供給装置に接続され、このマイクロ波供給装置から前記蓋体に向かって延在し、内部に導波空間を有する導波管と、この導波管の他端側に接続され、この導波管の他端から半径方向外方にフランジ状に拡張した後、前記蓋体に向かって下方へ側壁として延出し、その内部に導波空間を有するラジアル導波箱と、このラジアル導波箱の下端開口を覆い、複数のスロットを有し、前記蓋体に平行に配設されたアンテナ部材と、前記アンテナ部材の中心部の前記載置台側に、前記載置台に向かって突出して形成され、前記処理容器内壁で反射してくる高周波電界を反射する金属製の反射体を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 , H01L 21/31

FI (2件)：

H01L 21/31 C , H01L 21/302 B

Fターム (18件)：

5F004AA01 , 5F004BA20 , 5F004BB14 , 5F004BB18 , 5F004BB21 , 5F004BB22 , 5F004BB25 , 5F004BC08 , 5F045AA09 , 5F045BB02 , 5F045DP04 , 5F045DQ10 , 5F045EH01 , 5F045EH02 , 5F045EH03 , 5F045EJ03 , 5F045EM03 , 5F045EM05

引用特許：

審査官引用 (5件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-172208 出願人：後藤尚久, 安藤真, 東京エレクトロン株式会社
特開平3-191072
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-208381 出願人：株式会社東芝

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