プラズマ処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：浅井章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-172208
公開番号（公開出願番号）：特開平11-354294
出願日： 1998年06月04日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【課題】平面アンテナ部材の最外周部における反射電力をある程度低減させることによってマイクロ波の電磁界分布を均一化させることができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】マイクロ波発生器86にて発生したマイクロ波を、導波管88を介して平面アンテナ部材62に導き、これよりマイクロ波透過窓60を介して被処理体Wをプラズマ処理する処理容器22内に指数関数的に減衰するマイクロ波を導入するプラズマ処理装置において、前記平面アンテナ部材の周縁部に、前記平面アンテナ部材を伝搬してくるマイクロ波を吸収してこの反射量を抑制するためのマイクロ波吸収手段96を設けるように構成する。これにより、平面アンテナ部材の最外周部における反射電力をある程度低減させることによってマイクロ波の電磁界分布を均一化させる。

請求項（抜粋）：

マイクロ波発生器にて発生したマイクロ波を、導波管を介して平面アンテナ部材に導き、これよりマイクロ波透過窓を介して被処理体をプラズマ処理する処理容器内に指数関数的に減衰するマイクロ波を導入するプラズマ処理装置において、前記平面アンテナ部材の周縁部に、前記平面アンテナ部材を伝搬してくるマイクロ波を吸収してこの反射量を抑制するためのマイクロ波吸収手段を設けるように構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H05H 1/46 , H01L 21/203

FI (2件)：

H05H 1/46 C , H01L 21/203 S

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平3-224225
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-153357 出願人：東京エレクトロン株式会社, 後藤尚久, 安藤真, 高田潤一, 堀池靖浩
特開平3-187603

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