特許
J-GLOBAL ID:200903079751378859
マイクロリソグラフィック投影露光装置のための投影対物レンズ
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
山川 政樹
, 山川 茂樹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-552475
公開番号(公開出願番号):特表2007-522508
出願日: 2004年12月27日
公開日(公表日): 2007年08月09日
要約:
マイクロリソグラフィ投影露光装置(110)の投影対物レンズが、液浸液(134)が感光層(126)に隣接する液浸オペレーションに合わせて設計される。液浸液の屈折率は、投影対物レンズ(120、120’、120”)の物体側において液浸液と隣接する媒質(L5、142、L205、LL7、LL8、LL9)の屈折率より大きい。投影対物レンズは、液浸オペレーション中、液浸液(134)が物体平面(122)に向かって凸状に湾曲するように設計される。
請求項(抜粋):
像平面(128)に配置可能な感光層(126)上に、物体平面(122)に配置可能なマスク(124)を結像させるための、マイクロリソグラフィ投影露光装置(110)の対物レンズ(120、120’、120”)であって、前記投影対物レンズ(120、120’、120”)が、液浸液が前記感光層(126)に隣接する液浸オペレーションに合わせて設計されており、前記液浸液の屈折率が、前記物体側において前記液浸液と隣接する媒質(L5、142、L205、LL7、LL8、LL9)の屈折率より大きく、
前記投影対物レンズ(120、120’、120”)が、液浸オペレーション中、前記液浸液(134)が前記物体平面(122)に向かって凸状に湾曲するように設計されていることを特徴とする、
投影対物レンズ。
IPC (5件):
G02B 17/08
, G03F 7/20
, H01L 21/027
, G02B 21/04
, G02B 21/00
FI (5件):
G02B17/08 A
, G03F7/20 521
, H01L21/30 515D
, G02B21/04
, G02B21/00
Fターム (34件):
2H052AB02
, 2H087KA21
, 2H087LA01
, 2H087NA00
, 2H087PA15
, 2H087PA17
, 2H087PB18
, 2H087PB20
, 2H087QA02
, 2H087QA06
, 2H087QA12
, 2H087QA14
, 2H087QA17
, 2H087QA21
, 2H087QA25
, 2H087QA26
, 2H087QA32
, 2H087QA37
, 2H087QA41
, 2H087QA45
, 2H087QA46
, 2H087RA05
, 2H087RA12
, 2H087RA13
, 2H087RA32
, 2H087TA01
, 2H087TA02
, 2H087TA04
, 2H087UA03
, 2H087UA04
, 5F046BA03
, 5F046CB12
, 5F046CB25
, 5F046DA12
引用特許:
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