特許
J-GLOBAL ID：200903077541973069

投影光学系及びそれを用いた投影露光装置

発明者：
寺沢 千明

寺沢 千明 について

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加藤 隆志

加藤 隆志 について

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石井 弘之

石井 弘之 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-167427
公開番号（公開出願番号）：特開2000-356743
出願日： 1999年06月14日
公開日（公表日）： 2000年12月26日
要約：
【要約】【課題】非球面を用いることによりNa0.65程度、露光領域φ27.3mm程度を達成した高NAで広い露光領域を有してレチクルパターンを半導体ウエハに投影露光することができる投影露光装置を得ること。【解決手段】物体の像を像面へ投影する正と負の屈折力のレンズ群を含む複数のレンズ群を有した投影光学系において、共役長をL、各負レンズ群のパワーの総和をψoとしたとき|L×ψo|>17(φo=Σφoi φoiは第i負レンズ群のパワー)であり、軸上マージナル光線の高さをh、最軸外主光線の高さをhb としたとき|hb /h|>0.35を満足する面の少なくとも2面を非球面とし、該非球面の非球面量を△ASPHとしたとき|△ASPH/L|>1.0×10-6を満足し、前記少なくとも2面の非球面は面の中心から周辺部にかけて、互いに局所曲率パワーの変化が逆符号の領域を有すること。
請求項（抜粋）：
物体の像を像面へ投影する投影光学系において、該投影光学系は正の屈折力の正レンズ群と負の屈折力の負レンズ群を含む複数のレンズ群を有し、該投影光学系の共役長をL、各負レンズ群のパワーの総和をφoとしたとき |L×φo|>17(φo=Σφoi φoiは第i負群のパワー)であり、軸上マージナル光線の高さをh、最軸外主光線の高さをhb としたとき|hb /h|>0.35を満足する面の少なくとも2面を非球面とし、該非球面の非球面量を△ASPHとしたとき|△ASPH/L|>1.0×10-6を満足し、前記少なくとも2面の非球面は面の中心から周辺部にかけて、互いに局所曲率パワーの変化が逆符号の領域を有する2つの非球面であることを特徴とする投影光学系。
IPC (4件)：
G02B 13/24 ,  G02B 13/18 ,  G03F 7/22 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G02B 13/24 ,  G02B 13/18 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 515 D
Fターム (40件)：
2H087KA21 ,  2H087NA02 ,  2H087PA14 ,  2H087PA15 ,  2H087PA17 ,  2H087PB14 ,  2H087PB15 ,  2H087PB16 ,  2H087PB17 ,  2H087PB20 ,  2H087QA01 ,  2H087QA05 ,  2H087QA12 ,  2H087QA13 ,  2H087QA14 ,  2H087QA17 ,  2H087QA21 ,  2H087QA22 ,  2H087QA25 ,  2H087QA26 ,  2H087QA32 ,  2H087QA33 ,  2H087QA34 ,  2H087QA37 ,  2H087QA38 ,  2H087QA41 ,  2H087QA42 ,  2H087QA45 ,  2H087QA46 ,  2H087RA05 ,  2H087RA12 ,  2H087RA13 ,  2H087UA03 ,  2H087UA04 ,  5F046AA18 ,  5F046AA21 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (18件)
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