処理方法及び処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：中本菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-183540
公開番号（公開出願番号）：特開平9-017839
出願日： 1995年06月27日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：

【要約】【目的】被処理体を収容する容器のセット状態の監視及び容器内の被処理体を選出し取り出す搬送手段の動作の監視を行うことにより、処理能率の向上及び歩留りの向上を図る。【構成】複数の被処理体例えば半導体ウエハWを収容する容器6と、この容器6から選出された所定の半導体ウエハWを搬出入する搬送機構4と、半導体ウエハWに適宜処理を施す処理部3とを具備する処理装置において、容器6の有無を検出するカセットセンサ7と、このカセットセンサ7からの信号に基づいて駆動するCPU8を設ける。容器6が無い場合に、その状態をアラーム9にて表示し、アラーム表示に基づいて容器6を所定位置にセットした後、セットされた容器6内の半導体ウエハWをマッピングセンサ18にて選出すると共に、搬送機構4の異常動作を検出し、その検出信号をCPU8に伝達する。

請求項（抜粋）：

複数の被処理体を収容する容器から選出された被処理体を搬出して適宜処理を施す処理方法において、上記容器の有無を検出する工程と、上記容器が無い場合に、その状態を表示する工程と、上記表示に基づいて上記容器を所定位置にセットする工程と、セットされた上記容器内の上記被処理体を選出する工程と、を有することを特徴とする処理方法。

IPC (3件)：

H01L 21/68 , B65G 49/07 , H01L 21/02

FI (3件)：

H01L 21/68 A , B65G 49/07 C , H01L 21/02 Z

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平2-042743
処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-300960 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
特開平3-088634

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審査官引用 (8件)

特開平2-042743
処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-300960 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
特開平3-088634

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