特許
J-GLOBAL ID:200903079868333872
高反射鏡
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-034974
公開番号(公開出願番号):特開2005-227469
出願日: 2004年02月12日
公開日(公表日): 2005年08月25日
要約:
【課題】可視光域で高い反射率を有し、耐湿性、特に高温高湿の条件にさらされた後でも高い反射率を維持できる高反射鏡の提供。【解決手段】フィルム基板上に、下地膜、銀膜、酸化防止膜、保護膜がこの順で積層された高反射鏡であって、前記酸化防止膜が酸化物膜であり、かつ前記酸化防止膜の消衰係数が0.1以下であり、前記保護膜の消衰係数が0.01以下であることを特徴とする高反射鏡。前記下地膜が酸化物膜であり、スパッタリング法により形成され、かつスパッタリング法におけるスパッタガスは酸化性ガスを実質的に含まないことが好ましい。【選択図】なし
請求項(抜粋):
フィルム基板上に、下地膜、銀膜、酸化防止膜、保護膜がこの順で積層された高反射鏡であって、前記酸化防止膜が酸化物膜であり、かつ前記酸化防止膜の消衰係数が0.1以下であり、前記保護膜の消衰係数が0.01以下であることを特徴とする高反射鏡。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (15件):
2H042DA04
, 2H042DA11
, 2H042DA14
, 2H042DA18
, 2H042DA21
, 2H042DC02
, 2H042DE00
, 2H091FA14
, 2H091FB08
, 2H091FB13
, 2H091FC29
, 2H091GA01
, 2H091LA06
, 2H091LA11
, 2H091LA12
引用特許:
出願人引用 (7件)
-
高反射ミラー
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-187510
出願人:キヤノン株式会社
-
平面表示装置用Ag合金系反射膜
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-024453
出願人:日立金属株式会社
-
金属蒸着積層体
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-306313
出願人:尾池工業株式会社
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