特許

J-GLOBAL ID：200903079875022777

光回路基板とその製造方法

発明者： 水間浩一 ,  齊藤公彦 ,  飯田健二
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-209187
公開番号（公開出願番号）：特開2004-053789
出願日： 2002年07月18日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：

【課題】複雑な行程を経ることなく、さらに従来の溶媒蒸発に伴う沈降を利用した自己組織化法では作製困難であった欠陥部を有する光導波路の形成を可能にする方法を提供することを目的としている。【解決手段】光導波路を有する積層フォトニック結晶構造体7をポリエチレンフィルム1枚で包み込むように被覆し、積層フォトニック結晶構造体とポリエチレンフィルム15との接触界面を熱融着させることで、1枚のポリエチレンフィルムで被覆したフィルム状光回路シート8を形成できる。【選択図】 図6

請求項（抜粋）：

球状粒子配列により形成される光導波路と前記球状粒子配列を含むフォトニック結晶構造体の少なくとも1つの面がポリマーフィルムで被覆されていることを特徴とする光回路基板。

IPC (2件)：

G02B6/12 ,  G02B6/13

FI (3件)：

G02B6/12 N ,  G02B6/12 Z ,  G02B6/12 M

Fターム (7件)：

2H047KA03 ,  2H047LA18 ,  2H047PA06 ,  2H047QA05 ,  2H047RA08 ,  2H047TA01 ,  2H047TA41

引用特許：

審査官引用 (3件)

• フォトニック構造を有する周期構造体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-120192   出願人：キヤノン株式会社
• 実質的に三次元秩序を有する物品の作製のためのプロセス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-265145   出願人：ルーセントテクノロジーズインコーポレーテッド
• フォトニック結晶素子の作製方法及び作製装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-058659   出願人：日本航空電子工業株式会社