特許
J-GLOBAL ID:200903079933662293
電子線プローブマイクロX線分析方法、及びその装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
野河 信太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-198258
公開番号(公開出願番号):特開2006-017673
出願日: 2004年07月05日
公開日(公表日): 2006年01月19日
要約:
【課題】被分析試料の表面から深さ方向の元素分布分析をすることができる電子線プローブマイクロX線分析方法を提供すること【解決手段】本発明の電子線プローブマイクロX線分析方法は、被分析試料5表面に電子線2を照射し、この電子線2により被分析試料5表面から誘導放出される特性X線の強度を測定する電子線プローブマイクロX線分析において、測定する特性X線の被分析試料5表面に対する角度を所定の範囲内で変化させて、複数の角度で特性X線の強度を測定し、各角度で測定した特性X線の強度に基づいて被分析試料5の元素分析をする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
被分析試料表面に電子線を照射し、この電子線により被分析試料表面から誘導放出される特性X線の強度を測定する電子線プローブマイクロX線分析において、測定する特性X線の被分析試料表面に対する角度を所定の範囲内で変化させて、複数の角度で特性X線の強度を測定し、各角度で測定した特性X線の強度に基づいて被分析試料の元素分析をする電子線プローブマイクロX線分析方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (16件):
2G001AA03
, 2G001BA05
, 2G001CA01
, 2G001GA08
, 2G001GA13
, 2G001HA01
, 2G001JA01
, 2G001JA02
, 2G001JA06
, 2G001KA01
, 2G001LA11
, 2G001MA05
, 4M106BA02
, 4M106CB21
, 4M106DH25
, 4M106DH33
引用特許:
前のページに戻る