特許
J-GLOBAL ID：200903079968102320
エバネッセント光露光装置及び該エバネッセント光露光装置に用いるマスク及びエバネッセント光露光方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-355336
公開番号（公開出願番号）：特開平11-184094
出願日： 1997年12月24日
公開日（公表日）： 1999年07月09日
要約：
【要約】【課題】 光の波長以下の一括露光を容易に行えるエバネッセント光露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】 与圧容器103にはシリンダ106が接続され、内部は屈折率調整液105で満たされる。シリンダ106をピストン駆動モータ108で駆動することで、与圧容器103内部の屈折率調整液105の圧力を調整することができる。与圧容器103にはレーザ111より射出された後、コリメータレンズ113で平行光となったレーザ112の導入用のガラス窓114が設けられる。基板102はステージ110に搭載され、基板102の表面にはレジスト109が塗布されている。エバネッセント光マスク101は、エバネッセント光マスク母材104とエバネッセント光マスク金属パターン115から構成され、表面101aが被加工用の基板102に対面し、裏面101bが屈折率調整液105に接するように与圧容器103に取り付けられる。
請求項（抜粋）：
マスクにおけるパターンを、エバネッセント光により被露光物に露光させるエバネッセント光露光装置において、前記マスクの表面側と裏面側とに圧力差を発生させる手段と、前記被露光物を前記マスクの表面に対向した配置で保持する手段と、前記マスクの表面と前記被露光物との界面で全反射となる角度で、前記マスクの裏面から光を照射する光源とを有することを特徴とするエバネッセント光露光装置。
IPC (3件)：
G03F 7/20 501
, G03F 1/14
, H01L 21/027
G03F 7/20 501
, G03F 1/14 B
, H01L 21/30 502 P
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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