特許
J-GLOBAL ID：200903080041510934
光走査装置および画像形成装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石橋 佳之夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-178936
公開番号（公開出願番号）：特開2006-350167
出願日： 2005年06月20日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：
【課題】面発光レーザーアレイでマルチビーム書込を行う光走査装置において、レーザーアレイの各発光領域の特性がばらついても、被走査面上の光スポットサイズを均一にし、画質の劣化を低減する。【解決手段】光源は複数の発光領域が二次元アレイ状に配備された面発光レーザーで複数の発光領域を制限する複数の開口部を有し、複数の開口部は各発光領域に対応して1対1で配備され、Dmを開口部の主走査方向の幅、Dsを開口部の副走査方向の幅、βmを全光学系の主走査方向倍率、βsを全光学系の副走査方向倍率、ωmを被走査面上に形成される主走査方向の光スポットサイズ、ωsを被走査面上に形成される副走査方向の光スポットサイズ、とすると、走査光学系は Dm・|βm|<ωm かつ Ds・|βs|<ωs ・・・(1)の条件を満たす。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
複数の光束を射出する光源と、上記複数の光束を後続の光学系にカップリングするカップリング光学系と、上記複数の光束を主走査方向に偏向する光偏向装置と、偏向装置によって偏向された複数の光束を被走査面上に結像する走査光学系と、を有する光走査装置において、
上記光源は複数の発光領域が二次元アレイ状に配備された面発光レーザーで上記複数の発光領域を制限する複数の開口部を有し、
上記複数の開口部は各発光領域に対応して1対1で配備されており、
Dmを上記開口部の主走査方向の幅、Dsを上記開口部の副走査方向の幅、βmを全光学系の主走査方向倍率、βsを全光学系の副走査方向倍率、ωmを被走査面上に形成される主走査方向の光スポットサイズ、ωsを被走査面上に形成される副走査方向の光スポットサイズ、とすると、走査光学系は
Dm・|βm|<ωm かつ Ds・|βs|<ωs ・・・(1)
の条件を満たすことを特徴とする光走査装置。
IPC (4件)：
G02B 26/10
, B41J 2/44
, H04N 1/113
, H04N 1/04
G02B26/10 B
, B41J3/00 D
, H04N1/04 104A
, H04N1/04 D
2C362AA07
, 2C362AA14
, 2C362AA26
, 2C362BA51
, 2C362BA60
, 2H045AA01
, 2H045BA02
, 2H045BA23
, 2H045BA34
, 2H045CB24
, 5C072AA03
, 5C072BA15
, 5C072BA19
, 5C072DA02
, 5C072DA15
, 5C072HA02
, 5C072HA06
, 5C072HA08
, 5C072HA13
, 5C072HB10
, 5C072QA14
, 5C072XA01
, 5C072XA05
出願人引用 (2件)
-
特許第3227226号公報
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マルチビーム走査装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平9-106318
出願人：株式会社リコー
審査官引用 (3件)
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