特許
J-GLOBAL ID：200903080240701277
ポートドア保持・真空引きシステム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 稔 (外10名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-563553
公開番号（公開出願番号）：特表2002-522896
出願日： 1999年08月05日
公開日（公表日）： 2002年07月23日
要約：
【要約】ロードポートの個所でポートドア(26)上にポッドドア(22)を保持しかつポッドとポートドア(26)との間からおよびポッドドア(22)の内部から汚染物質、微粒子および/またはガスを除去するシステムを開示する。本発明の好ましい実施形態によれば、プロセスツール内に、プロセスツールに隣接してまたはプロセスツールから遠隔の位置に真空源(36)を設けることができ、該真空源(36)はポートドア(26)の前面の真空ポート(34)に連結される。真空は、ポートドア(26)とポッドドア(22)の並置表面間に負圧を発生させるために設けられる。
請求項（抜粋）：
1つ以上のワークを支持するポッドを受け入れるための、プロセスツールに取り付けられるロードポートであって、ポッドがポッドシェルおよびこのポッドシェルと係合するポッドドアを有し、ポッドとプロセスツールとの間での1つ以上のワークの搬送を容易にするロードポートにおいて、 ポートを有し、このポートを通って1つ以上のワークが搬送され、 ポートドアが前記ポートを覆う第1位置と、ポートドアが前記ポートを通してワークを搬送できるようにする第2位置との間で移動できるポートドアを有し、このポートドアはこのポートドアをポッドドアに連結する手段を備え、ポートドアとポッドドアとの間に界面が形成され、この界面はポートドアに並置されるポッドドアの側面の長さおよび幅にほぼ等しい領域を有し、 大気圧に対する負圧を前記界面に発生させるべくポートドアに連結された真空源を更に有することを特徴とするロードポート。
Fターム (13件)：
5F031CA02
, 5F031DA08
, 5F031EA14
, 5F031FA01
, 5F031FA03
, 5F031FA11
, 5F031FA15
, 5F031NA04
, 5F031NA05
, 5F031NA10
, 5F031NA20
, 5F031PA14
, 5F031PA26
