特許
J-GLOBAL ID：200903080330348754
洗浄剤組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
細田 芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-358117
公開番号（公開出願番号）：特開平11-181494
出願日： 1997年12月25日
公開日（公表日）： 1999年07月06日
要約：
【要約】【課題】固体状微粒子や油性汚れの付着した半導体基板又は半導体素子の洗浄性に優れ、かつ泡立ちの少ない洗浄剤組成物を提供すること、並びに固体状微粒子や油性汚れの付着した半導体基板又は半導体素子の洗浄性に優れ、かつ泡立ちの少ない洗浄方法を提供すること。【解決手段】アクリル酸、メタクリル酸及びマレイン酸からなる群より選ばれる少なくとも1種をモノマー成分とし、該モノマー成分を全モノマー成分の使用量の20モル%以上用いて得られる、重量平均分子量が500〜15万のポリカルボン酸化合物を含有してなる、半導体基板用又は半導体素子用洗浄剤組成物、並びに該洗浄剤組成物を用いて洗浄する半導体基板又は半導体素子の洗浄方法。
請求項（抜粋）：
アクリル酸、メタクリル酸及びマレイン酸からなる群より選ばれる少なくとも1種をモノマー成分とし、該モノマー成分を全モノマー成分の使用量の20モル%以上用いて得られる、重量平均分子量が500〜15万のポリカルボン酸化合物を含有してなる、半導体基板用又は半導体素子用洗浄剤組成物。
IPC (6件)：
C11D 7/60
, C11D 1/72
, C11D 3/37
, C11D 7/08
, C11D 7/26
, H01L 21/304 647
C11D 7/60
, C11D 1/72
, C11D 3/37
, C11D 7/08
, C11D 7/26
, H01L 21/304 647 A
