特許
J-GLOBAL ID:200903080496844695

感放射線性混合物およびそれを用いるレリーフ構造体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田代 烝治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-026495
公開番号(公開出願番号):特開平7-028247
出願日: 1994年02月24日
公開日(公表日): 1995年01月31日
要約:
【要約】【目的】 レリーフ構造体を生じるように加工するとき、改良されたコントラストを与える感放射線性混合物を提供すること。【構成】 (a1)酸不安定基を含有し、かつ酸の作用によりアルカリ性水溶液に溶解される水不溶性の有機結合剤、または(a2.1)水に溶解しないが、アルカリ性水溶液に溶解する重合体結合剤および(a2.2)水性アルカリ性現像液への溶解度が酸の作用により増加する有機化合物、および(b)化学放射線の作用下に酸を生じる有機化合物から本質的に成るポジティブ仕上げの感放射線性混合物であって、加えて、(c)ヒドロキシ-、アルコキシ-またはフェノキシ-陰イオンを有する、少なくとも1種の強塩基性有機化合物を含有することを特徴とする感放射線性混合物。
請求項(抜粋):
(a1) 酸不安定基を含有し、かつ酸の作用によりアルカリ性水溶液に溶解される水不溶性の有機結合剤、または(a2.1) 水に溶解しないが、アルカリ性水溶液に溶解する重合体結合剤および(a2.2) 水性アルカリ性現像液への溶解度が酸の作用により増加する有機化合物、および(b) 化学放射線の作用下に酸を生じる有機化合物から本質的に成るポジティブ仕上げの感放射線性混合物であって、加えて、(c) ヒドロキシ-、アルコキシ-またはフェノキシ-陰イオンを有する、少なくとも1種の強塩基性有機化合物を含有することを特徴とする感放射線性混合物。
IPC (5件):
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/032 ,  H01L 21/027
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 特開平4-051243
  • ポジ型放射感応性混合物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-025751   出願人:ヘキストジャパン株式会社
  • レジスト材料
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-285775   出願人:日本電気株式会社
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