特許
J-GLOBAL ID:200903080517795630

座標位置測定方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-009511
公開番号(公開出願番号):特開平7-218216
出願日: 1994年01月31日
公開日(公表日): 1995年08月18日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】高精度かつ高スループットの座標位置測定方法及び装置を提供する。【構成】試料13の座標位置を測定するために、試料13を載置したステージ12を連続移動するステップと、連続移動中のステージ12の位置を測定するステップと、ステージ12が所定の位置にあるときに、ステージ12の位置と関連してプローブを偏向して試料13上に走査するステップと、この走査により試料13から得られる情報信号と前記プローブの走査位置とを記憶するステップと、この情報信号と走査位置とを平滑処理するステップと、この平滑処理された情報信号と走査位置とから試料13の座標位置を演算するステップとを含んでいる。
請求項(抜粋):
試料の座標位置を測定するために、前記試料を載置したステージを連続移動するステップと、前記連続移動中の前記ステージの位置を測定するステップと、前記連続移動中の前記ステージが所定の位置にあるときに、前記ステージの位置に関連してプローブを偏向し前記試料上へ走査するステップと、前記走査により前記試料から得られる情報信号と前記プローブの走査位置とを記憶するステップと、前記記憶した情報信号と前記プローブの走査位置とを平滑処理するステップと、前記平滑処理された情報信号と前記プローブの走査位置とから前記試料の座標位置を演算するステップと、を含むことを特徴とした座標位置測定方法。
IPC (4件):
G01B 11/00 ,  G01B 15/00 ,  G01B 21/00 ,  H01L 21/027
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)

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