特許
J-GLOBAL ID：200903080546030961
強化サンプル処理装置、システムおよび方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
石田 敬
, 鶴田 準一
, 西山 雅也
, 樋口 外治
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-505120
公開番号（公開出願番号）：特表2004-525339
出願日： 2001年06月28日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：
サンプル材料を処理する装置、システム、および方法。サンプル材料は、サンプル材料の加熱中に回転される、装置の複数の処理チャンバに配置することができる。
請求項（抜粋）：
熱サイクル処理を実施する方法であって、
各プロセスチャンバがサンプル材料を収容する容積を規定する複数のプロセスチャンバを含む装置を用意することと、
上面、底面および熱構造体を含むベースプレートを用意することと、
前記ベースプレートの上面に接触すべく前記装置の第一の主面を配置して、前記装置が前記ベースプレートの上面に接触しているときに前記複数のプロセスチャンバの少なくとも何個かのプロセスチャンバを前記熱構造体と熱連通させることと、
前記複数のプロセスチャンバ内にサンプル材料を用意することと、
前記ベースプレートおよび前記装置を回転軸を中心に回転させながら電磁気エネルギーを前記ベースプレートの底面に向けることにより前記熱構造体の温度を制御し、それによりサンプル材料の温度を制御することとを含む方法。
IPC (4件)：
G01N35/00
, B01J4/00
, G01N35/08
, G01N37/00
G01N35/00 B
, B01J4/00 103
, G01N35/08 A
, G01N37/00 101
2G058AA09
, 2G058BA07
, 2G058BB26
, 2G058DA07
, 4B029AA07
, 4B029AA12
, 4B029AA23
, 4B029BB20
, 4B029FA12
, 4G068AA04
, 4G068AB11
, 4G068AC20
, 4G068AD32
, 4G068AF01
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (3件)
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