特許
J-GLOBAL ID：200903080665820601
オーバーコート材料
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
中本 宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-177575
公開番号（公開出願番号）：特開平7-140668
出願日： 1993年06月25日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：
【要約】【目的】 表面難溶化層及びタイムディレーの問題を解決する、従来技術を上回るオーバーコート材料を提供する。【構成】 化学増幅型レジスト材料に適用されるオーバーコート材料において、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、あるいはそれらの共重合体をベース樹脂(A)とし、ラジカル捕捉剤(B)、及び式(化1):(R)n AM〔式中Rは同一又は異なり(置換)芳香族基、Aはスルホニウム又はヨードニウム、Mはp-トルエンスルホネート又はトリフルオロメタンスルホネート、nは2又は3〕で表されるオニウム塩(C)、あるいは(C)の代りに有機酸(D)の3成分を含むオーバーコート材料。更に界面活性剤(E)及び/又はポリビニルアルコール若しくはエチレングリコール(F)を含んでもよい。【効果】 特に電子線、X線や遠紫外線による微細加工に有用である。
請求項（抜粋）：
化学増幅型レジスト材料に適用されるオーバーコート材料において、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、あるいはそれらの共重合体をベース樹脂(A)とし、ラジカル捕捉剤(B)、及び下記一般式(化1):【化1】(R)n AM(式中Rは同じでも異なってもよく芳香族基あるいは置換芳香族基を示し、Aはスルホニウムあるいはヨードニウムを示す。Mはp-トルエンスルホネート基あるいはトリフルオロメタンスルホネート基を示す。nは2あるいは3を示す)で表されるオニウム塩(C)の3成分を含むことを特徴とするオーバーコート材料。
IPC (5件)：
G03F 7/11 501
, G03F 7/029
, G03F 7/033
, G03F 7/039 501
, H01L 21/02
