特許
J-GLOBAL ID:200903080709882960
顕微鏡法および顕微鏡
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
杉村 興作
, 藤谷 史朗
, 来間 清志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-349694
公開番号(公開出願番号):特開2008-157873
出願日: 2006年12月26日
公開日(公表日): 2008年07月10日
要約:
【課題】試料の所望の情報を、短時間で、しかも光源の強度を高くすることなく、極めて高いS/Nで顕微鏡観察できる顕微鏡法および顕微鏡を提供する。【解決手段】波長の異なる第1電磁波と第2電磁波とを、少なくとも一部重ねて試料に照射する同時照射ステップと、該同時照射ステップにより、前記第1電磁波および前記第2電磁波が重ねて照射された前記試料の照射領域において、前記第1電磁波の照射により発生する屈折率変化の空間分布を、前記試料を透過した前記第2電磁波の位相差像として可視化する同時照射可視化ステップと、を含むことを特徴とする。【選択図】図6
請求項(抜粋):
波長の異なる第1電磁波と第2電磁波とを、少なくとも一部重ねて試料に照射する同時照射ステップと、
該同時照射ステップにより、前記第1電磁波および前記第2電磁波が重ねて照射された前記試料の照射領域において、前記第1電磁波の照射により発生する屈折率変化の空間分布を、前記試料を透過した前記第2電磁波の位相差像として可視化する同時照射可視化ステップと、
を含むことを特徴とする顕微鏡法。
IPC (2件):
FI (3件):
G01N21/64 E
, G02B21/06
, G01N21/64 F
Fターム (27件):
2G043AA01
, 2G043BA14
, 2G043BA16
, 2G043DA01
, 2G043EA01
, 2G043EA15
, 2G043FA01
, 2G043FA02
, 2G043FA06
, 2G043HA01
, 2G043HA02
, 2G043HA09
, 2G043HA11
, 2G043JA02
, 2G043KA01
, 2G043KA02
, 2G043KA03
, 2G043KA04
, 2G043KA05
, 2G043KA08
, 2G043KA09
, 2G043LA03
, 2H052AC14
, 2H052AC34
, 2H052AF14
, 2H052AF21
, 2H052AF25
引用特許:
引用文献:
審査官引用 (1件)
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赤外線工学 -基礎と応用-, 19910320, 第1版第1刷, 第95頁-第99頁
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