特許
J-GLOBAL ID：200903080733760671
周期的パターンのホログラフィ記録方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-057486
公開番号（公開出願番号）：特開平10-020750
出願日： 1997年03月12日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：
【要約】【課題】 パターンの周期的な構成要素を、より優れた解像度でホログラフィ記録層にホログラフィ的に記録することである。【解決手段】 マスクパターンの周期的又は準周期的に繰り返される構成要素をホログラフィ層17にホログラフィ記録するためのホログラフィ記録方法である。ホログラフィ的リソグラフィで、物体ビーム11は、マスクパターン14を通過してホログラム記録層17内で参照ビーム15と干渉してマスクパターン14のホログラムを形成するように、第1の基板19に対して方向付けている。かかる方法において、本願発明では、物体ビーム11は軸外れ角θで第2の基板13に対して方向付けし、物体ビーム11の使用される波長及び/又は入射角を、記録されるべき構成要素の周期に応じて選択して、実質的に0次光と、第1次回折光のひとつとをホログラム形成のために提供する。
請求項（抜粋）：
マスクパターンの周期的又は準周期的に繰り返される構成要素をホログラフィ記録層にホログラフィ的に記録するためのホログラフィ記録方法であって、ホログラフィ記録層を保持する第1の基板をプリズムの1つの面に密着させ、第1の方向に周期的または準周期的に繰り返される構成要素を有している第1のマスクパターンを保持する第2の基板を、第1の基板の近くにこれと平行に配置し、一定の波長の光ビームを分割膨張もしくは膨張分割して物体ビームと参照ビームとを発生させ、参照ビームは、ホログラフィ記録層と空気との境界面で全反射するように残りのプリズム面の1つに向けて方向付けられ、物体ビームは、マスクパターンを通過してホログラム記録層内で参照ビームと干渉してマスクパターンのホログラムを形成するように、第1の基板に向けて方向付けられるホログラフィ記録方法において、物体ビームは軸外れ角で第2の基板に向けて方向付けられ、実質的に0次光と、1次回折光のひとつとがホログラム形成のために提供されるように、物体ビームの使用される波長及び/又は入射角を、記録されるべき構成要素の周期に応じて選択することを特徴とするホログラフィ記録方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
審査官引用 (9件)
-
全内部反射ホログラムを記録する方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-257018
出願人：ホルトロニック・テクノロジーズ・リミテッド
-
特開昭63-071851
-
特開昭62-018503
全件表示
前のページに戻る
