特許
J-GLOBAL ID:200903080771761100
エピクロルヒドリン系ゴム-フッ素樹脂積層体、積層ホースおよび積層体の製造方法
発明者:
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-094977
公開番号(公開出願番号):特開2006-272739
出願日: 2005年03月29日
公開日(公表日): 2006年10月12日
要約:
【課題】 フッ素樹脂層とエピクロルヒドリン系ゴム組成物層とが強固に加硫接着された加硫ゴム積層体、および積層ホースを提供する。【解決手段】 大気圧プラズマ処理法により表面処理されたフッ素樹脂層の処理面とエピクロルヒドリン系ゴム組成物層とが加硫接着されてなるエピクロルヒドリン系ゴム-フッ素樹脂積層体において、エピクロルヒドリン系ゴム組成物が、アミン系加硫剤、チオウレア系加硫剤、チアジアゾール系加硫剤、トリアジン系加硫剤、及び硫黄からなる群より選ばれる加硫剤を含有し、大気圧プラズマ処理法が水素ガス、アルゴン及びヘリウムを含む混合ガス雰囲気で行なわれる積層体、および前記積層体からなり、フッ素樹脂を内層とし、エピクロルヒドリン系ゴムを外層とする積層ホース。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
大気圧プラズマ処理法により表面処理されたフッ素樹脂層の処理面とエピクロルヒドリン系ゴム組成物層とが加硫接着されてなるエピクロルヒドリン系ゴム-フッ素樹脂積層体において、
エピクロルヒドリン系ゴム組成物が、アミン系加硫剤、チオウレア系加硫剤、チアジアゾール系加硫剤、トリアジン系加硫剤、及び硫黄からなる群より選ばれる加硫剤を含有し、
大気圧プラズマ処理法が水素ガス、アルゴン及びヘリウムを含む混合ガス雰囲気で行なわれる積層体。
IPC (4件):
B32B 25/16
, B29C 35/02
, B32B 27/30
, F16L 11/04
FI (4件):
B32B25/16
, B29C35/02
, B32B27/30 D
, F16L11/04
Fターム (49件):
3H111AA02
, 3H111BA15
, 3H111BA25
, 3H111CA53
, 3H111CB03
, 3H111CB04
, 3H111CB05
, 3H111CB14
, 3H111CC03
, 3H111CC07
, 3H111DA09
, 3H111DB03
, 3H111DB08
, 3H111DB10
, 3H111EA04
, 4F100AA37
, 4F100AH03B
, 4F100AH03H
, 4F100AH04B
, 4F100AH04H
, 4F100AK10B
, 4F100AK17A
, 4F100AN02B
, 4F100BA02
, 4F100BA06
, 4F100BA07
, 4F100CA03B
, 4F100CA04
, 4F100CA06
, 4F100CA19
, 4F100DA11
, 4F100EJ06
, 4F100EJ61A
, 4F100GB32
, 4F100GB90
, 4F100JL11
, 4F100YY00A
, 4F203AA16
, 4F203AA45
, 4F203AB03
, 4F203AD05
, 4F203AD32
, 4F203AG03
, 4F203AG08
, 4F203DA11
, 4F203DB11
, 4F203DB26
, 4F203DC01
, 4F203DJ05
引用特許:
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (2件)
前のページに戻る