特許
J-GLOBAL ID：200903080795982018
ポジ型ホトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-171947
公開番号（公開出願番号）：特開平11-015162
出願日： 1997年06月27日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：
【要約】【課題】 ArFエキシマレーザー光に対する透明性が高く、高感度で高解像度を有し、耐ドライエッチング性、密着性、パターン形状の良好なレジストパターンを与えるアルカリによるパドル現像可能なポジ型ホトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)一般式【化1】(Rは水素原子又はメチル基、R2及びR3は低級アルキル基、R4はラクトン、ケトン又はエステル化合物の残基)で表わされる構成単位を含む(メタ)アクリル系重合体又は共重合体から成るアクリル系樹脂、及び(B)放射線照射により酸を発生する酸発生剤を含有させ、ポジ型ホトレジスト組成物とする。
請求項（抜粋）：
(A)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が変化するアクリル系樹脂及び(B)放射線照射により酸を発生する酸発生剤を含有するポジ型ホトレジスト組成物において、(A)成分が、一般式【化1】(式中のR1は水素原子又はメチル基、R2及びR3は、それぞれ低級アルキル基、R4はラクトン化合物、ケトン化合物及びエステル化合物の中から選ばれた化合物の炭素原子に結合した水素原子1個を除いて形成される残基である)で表わされる構成単位を含むアクリル若しくはメタクリル系重合体又は共重合体であることを特徴とするポジ型ホトレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503
, G03F 7/033
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/033
, H01L 21/30 502 R
