特許

J-GLOBAL ID：200903080834602619

プラズマディスプレイパネル用基板の製造方法

発明者： 守屋 豪 ,  岩永 慶二 ,  出口 雄吉
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-090640
公開番号（公開出願番号）：特開2001-281876
出願日： 2000年03月29日
公開日（公表日）： 2001年10月10日
要約：

【要約】【課題】プラズマディスプレイ用基板の製造において、焼成時の寸法変化によるパターン位置ズレを、容易で安価な方法で補正する方法を提供する。【解決手段】焼成時の基板寸法変化によるパターン寸法変化分を見込み、基板温度とマスク温度に差をつけて露光を行うことで、パターン寸法を所定より大きくまたは小さく補正して形成する方法およびガラス基板と熱膨張係数の異なるマスクを用いて露光することで、パターン寸法を所定より大きくまたは小さく補正して形成する方法によって達成される。

請求項（抜粋）：

ガラス基板上にマスク露光により所定パターンを形成した後、基板を焼成してパターンを焼き付けるプラズマディスプレイパネル用基板の製造方法において、基板温度とマスク温度に差をつけてマスク露光を行うことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用基板の製造方法。

IPC (3件)：

G03F 7/20 501 ,  H01J 9/02 ,  H01J 11/02

FI (3件)：

G03F 7/20 501 ,  H01J 9/02 F ,  H01J 11/02 B

Fターム (13件)：

2H097BA02 ,  2H097JA02 ,  2H097LA20 ,  5C027AA01 ,  5C027AA10 ,  5C040FA01 ,  5C040GB03 ,  5C040GB14 ,  5C040GC19 ,  5C040JA15 ,  5C040JA22 ,  5C040MA22 ,  5C040MA26

引用特許：

審査官引用 (2件)

• プラズマディスプレイパネル用基板構体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-000079   出願人：富士通株式会社
• パターン形成方法及びパターン形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-180948   出願人：キヤノン株式会社