特許
J-GLOBAL ID：200903080877646385
画像形成装置
出願人/特許権者：
キヤノン株式会社
キヤノン株式会社 について
代理人 (3件)： 近島 一夫 , 相田 伸二 , 田北 嵩晴
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-294632
公開番号（公開出願番号）：特開2004-145294
出願日： 2003年08月18日
公開日（公表日）： 2004年05月20日
要約：
【課題】 濃度制御用のテストパターンを感光ドラムから中間転写ベルトに転写する際の、転写バイアスを最適に設定する。【解決手段】 通常画像を形成する際に現像装置に印加される現像バイアスVdcと転写バイアスVtrとの電位差(コントラスト)をVd-tとし、またアナログ現像字の現像バイアスVdc’と転写バイアスVtr’との電位差(コントラスト)をVd-t’とする。このとき、電位差Vd-tと電位差Vd-t’とが同じになるように、Vtr’を設定する。すなわち、Vtr’=Vtr-Vdc+Vdc’が成立するように、Vtr’を設定する。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
像担持体を帯電する帯電手段と、
帯電された前記像担持体を露光し、静電潜像を形成する露光手段と、
前記静電潜像を、現像剤によって現像する現像手段と、
定電圧制御された転写バイアスが印加されることで、前記像担持体上の現像剤像を他部材に転写する転写手段と、
前記帯電手段による帯電が行われ、かつ前記露光手段による露光が行われない前記像担持体の領域に、前記現像手段による現像剤の供給を行うことで、前記像担持体上に画像制御用のテストパターンを形成するテストパターン形成手段と、
前記転写手段によって前記他部材に転写された前記テストパターンを検出するテストパターン検出手段と、
前記テストパターンの前記他部材への転写時における転写バイアスの値を、前記テストパターンが形成される時の前記像担持体の表面電位に応じて設定する制御手段と、を有することを特徴とする画像形成装置。
IPC (4件)：
FI (4件)：
Fターム (72件)：
2H027DA01
, 2H027DA02
, 2H027DA09
, 2H027DA46
, 2H027DE02
, 2H027DE05
, 2H027EA01
, 2H027EA03
, 2H027EA05
, 2H027EB04
, 2H027EC03
, 2H027EC06
, 2H027EC19
, 2H027EF02
, 2H027EF07
, 2H073AA01
, 2H073BA02
, 2H073BA04
, 2H073BA13
, 2H073BA23
, 2H073BA28
, 2H073CA03
, 2H073CA22
, 2H200GA12
, 2H200GA14
, 2H200GA16
, 2H200GA23
, 2H200GA30
, 2H200GA34
, 2H200GA45
, 2H200GA47
, 2H200GA53
, 2H200GA57
, 2H200GB12
, 2H200GB25
, 2H200HA02
, 2H200HA28
, 2H200HA29
, 2H200HB12
, 2H200HB22
, 2H200HB45
, 2H200HB46
, 2H200HB48
, 2H200JA02
, 2H200JA25
, 2H200JA26
, 2H200JA28
, 2H200JA29
, 2H200JA30
, 2H200JC03
, 2H200JC12
, 2H200JC15
, 2H200JC16
, 2H200JC20
, 2H200LB02
, 2H200LB13
, 2H200MA03
, 2H200MA04
, 2H200MA08
, 2H200MA20
, 2H200MB01
, 2H200MB04
, 2H200MB06
, 2H200NA02
, 2H200NA06
, 2H200PA03
, 2H200PA19
, 2H200PA29
, 2H200PB04
, 2H200PB05
, 2H200PB20
, 2H200PB39
引用特許：
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