特許
J-GLOBAL ID：200903080894781369
炭酸ジアリールの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-390534
公開番号（公開出願番号）：特開2001-247518
出願日： 2000年12月22日
公開日（公表日）： 2001年09月11日
要約：
【要約】【課題】触媒として芳香族含窒素複素環化合物を用いて芳香族モノヒドロキシ化合物とホスゲンから炭酸ジアリールを製造する方法において、高転化率でも工業的に有利に、炭酸ジアリールを製造し、副生してくる塩化水素を塩素に転換後、ホスゲン製造プロセス中に再利用するプロセスの提供。【解決手段】下記の4工程を含むことを特徴とする炭酸ジアリールの製造方法。1)芳香族モノヒドロキシ化合物とホスゲンとを、芳香族含窒素複素環化合物触媒の存在下に、反応温度80°C〜180°Cで縮合反応させて炭酸ジアリールを得る炭酸ジアリール製造工程、2)縮合反応で副生する塩化水素ガスから不純物を除去する精製工程、3)精製された塩化水素ガスからホスゲン製造工程に使用しうる塩素を得る塩素回収工程、及び4)回収された塩素を一酸化炭素と反応させて炭酸ジアリール製造工程に使用しうるホスゲンを得るホスゲン製造工程。
請求項（抜粋）：
下記の4工程を含むことを特徴とする炭酸ジアリールの製造方法。1)芳香族モノヒドロキシ化合物とホスゲンとを、芳香族含窒素複素環化合物触媒の存在下に、反応温度80°C〜180°Cで縮合反応させて炭酸ジアリールを得る炭酸ジアリール製造工程、2)縮合反応で副生する塩化水素ガスから不純物を除去する精製工程、3)精製された塩化水素ガスからホスゲン製造工程に使用しうる塩素を得る塩素回収工程、及び4)回収された塩素を一酸化炭素と反応させて炭酸ジアリール製造工程に使用しうるホスゲンを得るホスゲン製造工程。
IPC (3件)：
C07C 68/02
, C07C 69/96
, C07B 61/00 300
C07C 68/02 A
, C07C 69/96 Z
, C07B 61/00 300
4H006AA02
, 4H006AC13
, 4H006AC48
, 4H006AD10
, 4H006BA51
, 4H006BC10
, 4H006BD34
, 4H006BD51
, 4H006BD52
, 4H006BJ10
, 4H006KA52
, 4H039CA66
, 4H039CD10
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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