特許
J-GLOBAL ID:200903080900802098
高分子ゲル構造体及びその製造方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 永坂 友康
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-219791
公開番号(公開出願番号):特開2009-051087
出願日: 2007年08月27日
公開日(公表日): 2009年03月12日
要約:
【課題】良好な機械的強度を有するとともに、摩擦性を低減可能な高分子ゲル構造体を提供する。【解決手段】凹凸のついた少なくとも1つの主表面を有する、第一のポリマー成分を含む第一の層と、前記第一の層の前記主表面上に形成された、第二のポリマー成分を含む第二の層とを有し、前記第二のポリマー成分は、前記第一の層中に侵入し、前記第一のポリマー成分との間で相互侵入高分子網目構造又はセミ相互侵入高分子網目構造を形成している、高分子ゲル構造体。【選択図】なし
請求項(抜粋):
凹凸のついた少なくとも1つの主表面を有する、第一のポリマー成分を含む第一の層と、前記第一の層の前記主表面上に形成された、第二のポリマー成分を含む第二の層とを有し、前記第二のポリマー成分は、前記第一の層中に侵入し、前記第一のポリマー成分との間で相互侵入高分子網目構造又はセミ相互侵入高分子網目構造を形成している、高分子ゲル構造体。
IPC (6件):
B32B 27/16
, C08J 5/16
, C08F 2/00
, A61L 27/00
, A61L 29/00
, A61F 2/16
FI (7件):
B32B27/16 101
, C08J5/16
, C08F2/00 C
, A61L27/00 D
, A61L29/00 C
, A61L29/00 J
, A61F2/16
Fターム (80件):
4C081AB22
, 4C081AB23
, 4C081AC08
, 4C081BA03
, 4C081BB05
, 4C081CA081
, 4C081CC04
, 4C081DA02
, 4C081DA12
, 4C081DC02
, 4C081EA02
, 4C097AA03
, 4C097AA25
, 4C097BB01
, 4C097CC02
, 4C097CC03
, 4C097DD01
, 4C097EE03
, 4C097FF03
, 4C097MM04
, 4C167AA01
, 4C167BB05
, 4C167BB06
, 4C167BB12
, 4C167BB13
, 4C167BB26
, 4C167CC07
, 4C167CC08
, 4C167FF01
, 4C167GG02
, 4C167GG41
, 4C167GG45
, 4C167HH14
, 4F071AA32X
, 4F071AA33X
, 4F071AA35X
, 4F071AE02
, 4F071AF04
, 4F071AF13
, 4F071AF28
, 4F071AG02
, 4F071AG05
, 4F071AG15
, 4F071AH19
, 4F071EA01
, 4F071EA05
, 4F071EA06
, 4F100AK01A
, 4F100AK01B
, 4F100AK02A
, 4F100AK02B
, 4F100AK07
, 4F100AK25
, 4F100AK26
, 4F100AK42
, 4F100AL01A
, 4F100AL01B
, 4F100BA02
, 4F100CA02
, 4F100CA30
, 4F100DA11
, 4F100DD01B
, 4F100EH46
, 4F100EJ05A
, 4F100EJ05B
, 4F100EJ54
, 4F100EJ82
, 4F100GB66
, 4F100JB05A
, 4F100JB05B
, 4F100JB06A
, 4F100JB06B
, 4F100JK16
, 4F100JM10B
, 4J011CA01
, 4J011CA08
, 4J011CB00
, 4J011CC02
, 4J011CC06
, 4J011CC10
引用特許: