特許
J-GLOBAL ID:200903066284961575

改善された研磨パッドの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-020194
公開番号(公開出願番号):特開2006-233199
出願日: 2006年01月30日
公開日(公表日): 2006年09月07日
要約:
【課題】強度、伸度などの機械特性が均一な相互侵入高分子網目構造体およびその製造方法を提供する。また、研磨時の面内均一性に優れ、連続研磨において研磨レートの低下の小さく、パッド寿命が改良された研磨パッドおよびその製造方法を提供する。【解決手段】エチレン性不飽和化合物、ラジカル重合開始剤、からなるラジカル重合性組成物に高分子成形体を浸漬させる工程、およびラジカル重合性組成物を含浸させた高分子成形体の膨潤状態下においてエチレン性不飽和化合物を重合させる工程、を包含する相互侵入高分子網目構造体の製造方法であって、ラジカル重合性組成物に高分子成形体を浸漬させる工程の前に、ラジカル重合禁止剤を、該ラジカル重合性組成物および/または該高分子成形体に添加する相互侵入高分子網目構造体の製造方法により得られることを特徴とする相互侵入高分子網目構造体およびその製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
エチレン性不飽和化合物、ラジカル重合開始剤、からなるラジカル重合性組成物に高分子成形体を浸漬させる工程、およびラジカル重合性組成物を含浸させた高分子成形体の膨潤状態下においてエチレン性不飽和化合物を重合させる工程、を包含する相互侵入高分子網目構造体の製造方法であって、ラジカル重合性組成物に高分子成形体を浸漬させる工程の前に、ラジカル重合禁止剤を、該ラジカル重合性組成物および/または該高分子成形体に添加する、相互侵入高分子網目構造体の製造方法により得られることを特徴とする相互侵入高分子網目構造体。
IPC (6件):
C08L 57/00 ,  B24B 37/00 ,  H01L 21/304 ,  C08L 101/00 ,  C08F 2/00 ,  C08J 9/42
FI (6件):
C08L57/00 ,  B24B37/00 C ,  H01L21/304 622F ,  C08L101/00 ,  C08F2/00 C ,  C08J9/42
Fターム (46件):
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CA01 ,  3C058CA06 ,  3C058CB01 ,  3C058CB05 ,  3C058DA17 ,  4F074AA48 ,  4F074AA80 ,  4F074AA98 ,  4F074CE15 ,  4F074CE17 ,  4F074CE56 ,  4F074CE98 ,  4F074DA02 ,  4F074DA03 ,  4F074DA12 ,  4F074DA56 ,  4J002BG04X ,  4J002BG05X ,  4J002BG06X ,  4J002BG07X ,  4J002CK03W ,  4J002CK04W ,  4J002CK05W ,  4J002GQ00 ,  4J002GT00 ,  4J011CA01 ,  4J011CB02 ,  4J011CC02 ,  4J011NA13 ,  4J011NA15 ,  4J011NA18 ,  4J011NA20 ,  4J011NA26 ,  4J011NA35 ,  4J011NB03 ,  4J011PA16 ,  4J011PA29 ,  4J011PA33 ,  4J011PA36 ,  4J011PA40 ,  4J011PA45 ,  4J011PA95 ,  4J011PB07 ,  4J011PC02
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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