高純度タンタルおよびそれを含む、スパッタターゲットのような製品

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-584117
公開番号（公開出願番号）：特表2002-530534
出願日： 1999年11月24日
公開日（公表日）： 2002年09月17日
要約：

【要約】高純度の金属タンタルおよびそれを含む合金が記載されている。金属タンタルは好ましくは少くとも99.995%、そしてもっと好ましくは少くとも99.999%の純度を有する。加えて、約50μm以下の粒径、もしくは厚みの5%増分内の(100)強度がランダムな15より小さい集合組織、もしくは約-4.0より大きい(111):(100)強度の増分対数比、またはこれらの組合わせを有する金属タンタルもしくはその合金が記載されている。さらにスパッタターゲット、キャパシタ容器、抵抗性膜層、ワイア等を含むが、これらに限定されない、金属タンタルからつくられる物品および部品について記載されている。さらに、高純度金属の製造方法が開示されており、タンタルを含有する塩を、この塩を還元してタンタル粉末および第2の塩とすることのできる少くとも1つの化合物と反応容器中で反応させる工程を含む。反応容器もしくは反応容器の内張り、ならびに撹拌機もしくは撹拌機の外張りは溶融タンタルの蒸気圧以上の蒸気圧を有する金属材料でつくられている。高純度タンタルは微細で均一なミクロ構造を有するのが好ましい。

請求項（抜粋）：

少くとも99.995%の純度および約150μm以下の平均粒度を有する金属タンタル。

IPC (15件)：

C22B 34/24 , B22F 9/24 , C22B 3/44 , C22B 9/04 , C22B 9/20 , C22B 9/22 , C22C 27/02 103 , C22F 1/18 , C22F 1/00 604 , C22F 1/00 623 , C22F 1/00 682 , C22F 1/00 683 , C22F 1/00 685 , C22F 1/00 691 , C22F 1/00 694

FI (15件)：

C22B 34/24 , B22F 9/24 D , C22B 9/04 , C22B 9/20 , C22B 9/22 , C22C 27/02 103 , C22F 1/18 G , C22F 1/00 604 , C22F 1/00 623 , C22F 1/00 682 , C22F 1/00 683 , C22F 1/00 685 A , C22F 1/00 691 B , C22F 1/00 694 B , C22B 3/00 T

Fターム (15件)：

4K001AA25 , 4K001CA01 , 4K001DB02 , 4K001DB17 , 4K001EA02 , 4K001FA10 , 4K001FA13 , 4K001HA06 , 4K017AA03 , 4K017BA07 , 4K017CA07 , 4K017DA01 , 4K017EJ01 , 4K017FB03 , 4K017FB07

引用特許：

審査官引用 (6件)

Ta製スパッタリングタ-ゲットとその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-079055 出願人：日鉱金属株式会社
特開平2-070029
Taスパッタターゲットとその製造方法及び組立体
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-261108 出願人：株式会社ジャパンエナジー

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引用文献：

審査官引用 (3件)

Controlling the Texture of Tantalum Plate
東長原工場におけるタンタルの製造
電子ビーム溶解した純タンタルの力学的特性

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