洗浄装置及び洗浄方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：須山佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-011552
公開番号（公開出願番号）：特開平10-209109
出願日： 1997年01月24日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：

【要約】【課題】パーティクルの転写の発生を防止することができる洗浄装置及び洗浄方法の提供。【解決手段】洗浄槽41内のDIWからウエハWを引き出す際にDIWの表面に窒素ガス雰囲気121を形成しておき、ウエハWをこの窒素ガス雰囲気121を介してIPA雰囲気とされた乾燥室42内に移送するように構成する。

請求項（抜粋）：