特許
J-GLOBAL ID：200903081381776323

光導波路の形成方法

発明者：
江利山 祐一

江利山 祐一 について

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玉木 研太郎

玉木 研太郎 について

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高瀬 英明

高瀬 英明 について

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宇高 友広

宇高 友広 について


出願人/特許権者：
ジェイエスアール株式会社

ジェイエスアール株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-394902
公開番号（公開出願番号）：特開2003-195081
出願日： 2001年12月26日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：
【要約】【課題】 光IC、光モジュール、LED、LD等の光デバイスに搭載される光導波路を簡便に製造する方法を得る。【解決手段】 下部クラッド層、コア部分および上部クラッド層からなる光導波路であって、下部クラッド層およびコア部分の少なくとも1つをドライフィルムを用いて形成することを特徴とする光導波路の形成方法。
請求項（抜粋）：
下部クラッド層、コア部分および上部クラッド層からなる光導波路であって、下部クラッド層およびコア部分の少なくとも1つをドライフィルムを用いて形成することを特徴とする光導波路の形成方法。
IPC (2件)：
G02B 6/13 ,  G02B 6/12
FI (2件)：
G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N
Fターム (11件)：
2H047KA04 ,  2H047PA01 ,  2H047PA02 ,  2H047PA15 ,  2H047PA22 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA42 ,  2H047TA43 ,  2H047TA44
引用特許：
審査官引用 (5件)
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