特許
J-GLOBAL ID:200903081415725871

水性感光性組成物及びパターンの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小田島 平吉 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-125499
公開番号(公開出願番号):特開平6-313134
出願日: 1993年04月27日
公開日(公表日): 1994年11月08日
要約:
【要約】【目的】 高解像度で、微細画像パターン形成能に優れたポジ型電着フォトレジスト等に有用な水性感光性組成物及びそれを用いたパターンの製造方法を提供する。【構成】 A)カルボキシル基を重合体1kgあたり0.5〜10当量含有する重合体を100重量部、B)一分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物を5〜150重量部、及びC)活性エネルギー線照射により酸を発生する化合物をA)とB)との合計量100重量部に対して0.1〜40重量部を必須成分として含む組成物を塩基性化合物で中和し、水中に溶解又は分散した事を特徴とする水性感光性組成物及びそれを用いたパターンの製造方法。
請求項(抜粋):
A)カルボキシル基を重合体1kgあたり0.5〜10当量含有する重合体を100重量部、B)一分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物を5〜150重量部、及びC)活性エネルギー線照射により酸を発生する化合物をA)とB)との合計量100重量部に対して0.1〜40重量部を必須成分として含む組成物を塩基性化合物で中和し、水中に溶解又は分散したことを特徴とする水性感光性組成物。
IPC (7件):
C09D 5/44 PRL ,  C09D 5/44 PRG ,  C09D 5/44 PRN ,  C09D201/08 PDG ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 501 ,  H05K 3/00
引用特許:
審査官引用 (8件)
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