特許
J-GLOBAL ID：200903081462599892
ポジ型感光性樹脂組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-199759
公開番号（公開出願番号）：特開平6-194829
出願日： 1993年08月11日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：
【要約】【構成】 アルカリ可溶性ノボラック型樹脂に、感光性成分として、一般式【化1】又は【化2】(式中のR1及びR2のうち少なくとも一方は-OD3で、残りは水素原子又は水酸基、D1,D2及びD3は、その中の少なくとも1個がナフトキノン-1,2-ジアジドスルホニル基で、残りは水素原子、k,m及びnは0又は1〜3の整数である)で表わされる化合物を配合して成るポジ型感光性樹脂組成物。【効果】 高感度で画像コントラスト、パターンの断面形状に優れるとともに、特に焦点深度幅特性及び耐熱性の優れたレジストパターンを形成しうるので、ICやLSIなどの半導体デバイスの超微細加工用レジストとして好適に用いられる。
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性ノボラック型樹脂に、感光性成分として、一般式【化1】又は【化2】(式中のR1及びR2は、そのうち少なくとも一方が-OD3で、残りは水素原子又は水酸基、D1,D2及びD3は、その中の少なくとも1個がナフトキノン-1,2-ジアジドスルホニル基で、残りは水素原子であり、k,m及びnは0又は1〜3の整数である)で表わされる化合物の中から選ばれた少なくとも1種を配合して成るポジ型感光性樹脂組成物。
IPC (2件)：
引用特許：
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