特許
J-GLOBAL ID：200903081491617069

光学的形状計測装置

発明者：
大澤 康宏

大澤 康宏 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-325318
公開番号（公開出願番号）：特開2005-091176
出願日： 2003年09月17日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：
【課題】空間符号化法で個別領域と領域ごとの局所的な詳細形状を求める場合、領域境界で生じる符号誤りの影響を無くす光学的形状測定装置を提供する。【解決手段】測定物体に光パターンを照射する照射手段Aと、測定物体表面で反射された光パターンを得る撮像手段6と、撮像パターンから測定物体の表面形状を計算する計算手段7、8、9からなり、前記光パターンが空間符号化法の空間符号パターンと、符号化された領域ごとに繰り返す繰り返しパターンであり、それぞれから領域番号と領域内の詳細形状を求め、両者を統合して測定物全体の形状を計算する光学的形状測定装置において、前記パターンを用いて測定したずらし無し形状と、前記パターンを符号化された領域に対して領域の半分の幅だけ基線方向にずらした前記空間符号パターンおよび繰り返しパターンを照射し、その撮像パターンから求めたずらし有り形状とを重み付け加算して、最終形状を得る。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
測定物体に光パターンを照射する照射手段と、測定物体表面で反射された光パターンを得る撮像手段と、撮像パターンから測定物体の表面形状を計算する計算手段からなり、前記光パターンが空間符号化法の空間符号パターンと、符号化された領域ごとに繰り返す繰り返しパターンであり、前記空間符号パターンからは領域番号を求め、前記繰り返しパターンからは領域内の詳細形状を求め、両者を統合して測定物全体の形状を計算する光学的形状測定装置において、前記パターンを用いて測定したずらし無し形状と、前記パターンを符号化された領域に対して領域の半分の幅だけ前記撮像手段の光学中心から照射手段の光学中心を向く方向にずらした前記空間符号パターンおよび繰り返しパターンを照射し、その撮像パターンから求めたずらし有り形状とを重み付け加算して、最終形状を得ることを特徴とする光学的形状測定装置。
IPC (2件)：
G01B11/25 ,  G01B11/24
FI (2件)：
G01B11/24 E ,  G01B11/24 K
Fターム (8件)：
2F065AA53 ,  2F065FF01 ,  2F065FF09 ,  2F065FF42 ,  2F065HH06 ,  2F065HH07 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 特開昭60-152903号公報
  • 形状計測装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-192166   出願人：シーケーディ株式会社, 株式会社ネクスタ
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM