特許
J-GLOBAL ID:200903081533012162
高緻密質炭化ケイ素セラミックスおよびその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
八田 幹雄
, 奈良 泰男
, 齋藤 悦子
, 宇谷 勝幸
, 藤井 敏史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-120386
公開番号(公開出願番号):特開2005-298304
出願日: 2004年04月15日
公開日(公表日): 2005年10月27日
要約:
【課題】 緻密かつ高剛性の炭化ケイ素セラミックスとその製造方法を提供する。【解決手段】 酸化アルミニウム1〜10質量%と希土類酸化物1〜10質量%とを含み残部がケイ素および不可避的不純物からなり、かつ前記酸化アルミニウム中のアルミニウムと前記希土類酸化物中の希土類元素との比率がモル比で95:5〜65:35の範囲である原料粉末を成形してなる成形体を、原料粉末と同じ成分範囲からなる混合粉末中に埋め込んで、不活性ガス雰囲気中で1750〜2100°Cで常圧焼成を行う製造方法である。この製造方法によって、密度が3.10g/cm3以上、ヤング率が405GPa以上であることを特徴とする高緻密質炭化ケイ素セラミックスが得られる。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
アルミニウムおよび希土類元素を含む複合酸化物を2〜20質量%含む炭化ケイ素セラミックスであって、前記複合酸化物中のアルミニウムと希土類元素との比率がモル比で95:5〜65:35の範囲であり、かつ、前記炭化ケイ素セラミックスの密度が3.10g/cm3以上、ヤング率が405GPa以上であることを特徴とする高緻密質炭化ケイ素セラミックス。
IPC (3件):
C04B35/565
, C04B35/64
, C04B35/645
FI (5件):
C04B35/56 101F
, C04B35/56 101T
, C04B35/64 B
, C04B35/64 N
, C04B35/64 C
Fターム (25件):
4G001BA03
, 4G001BA08
, 4G001BA22
, 4G001BB03
, 4G001BB08
, 4G001BB22
, 4G001BC11
, 4G001BC13
, 4G001BC23
, 4G001BC42
, 4G001BC43
, 4G001BC51
, 4G001BC52
, 4G001BC54
, 4G001BC55
, 4G001BC56
, 4G001BC57
, 4G001BC62
, 4G001BD01
, 4G001BD03
, 4G001BD12
, 4G001BD13
, 4G001BD37
, 4G001BE33
, 4G001BE35
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (6件)
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