特許

J-GLOBAL ID：200903081535696425

積層体の製造方法および製造装置ならびにガスバリアフィルム

発明者： 植田 恭輔
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-071390
公開番号（公開出願番号）：特開2009-228015
出願日： 2008年03月19日
公開日（公表日）： 2009年10月08日
要約：

【課題】 本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、高分子フィルムと無機酸化物層との密着性を改善し、さらに、従来よりもガスバリア性の高いガスバリアフィルムを提供することができる積層体の製造方法および製造装置を提供する。【解決手段】 本発明の積層体の製造方法及び製造装置は、高分子フィルムの片面もしくは両面上に、無機酸化物層を有する積層体の製造方法において、少なくとも、前記無機酸化物層を成膜する成膜工程と、RIE(リアクティブイオンエッチング)によるプラズマ処理を施す処理工程と、を有し、前記成膜工程と処理工程とが、同時に施されることを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

高分子フィルムの片面もしくは両面上に、無機酸化物層を有する積層体の製造方法において、 少なくとも、前記無機酸化物層を成膜する成膜工程と、RIE(リアクティブイオンエッチング)によるプラズマ処理を施す処理工程と、を有し、前記成膜工程と処理工程とが、同時に施されることを特徴とする積層体の製造方法。 (以下、成膜工程と処理工程とが同時に施される工程を膜形成工程と記載する。)

IPC (2件)：

C23C 14/02 ,  B32B 9/00

FI (2件)：

C23C14/02 A ,  B32B9/00 A

Fターム (28件)：

4F100AA17B ,  4F100AA17C ,  4F100AA17D ,  4F100AA17E ,  4F100AA20 ,  4F100AK01A ,  4F100AK01E ,  4F100AK42 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA06 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10D ,  4F100EH66 ,  4F100EJ15 ,  4F100EJ61 ,  4F100GB16 ,  4F100GB23 ,  4F100JD02 ,  4F100JK06 ,  4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA52 ,  4K029CA01 ,  4K029DB21 ,  4K029FA05 ,  4K029GA02

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 強密着ガスバリア性積層フィルムおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-056082   出願人：凸版印刷株式会社
• 太陽電池用バックシート及びその製造方法及び太陽電池
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-255347   出願人：凸版印刷株式会社
• 国際公開2003-009998号公報
  

審査官引用 (5件)

• 圧力勾配型イオンプレーティング式成膜装置および成膜方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-320069   出願人：大日本印刷株式会社
• イオン支援された真空コーティング方法並びに装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平7-526619   出願人：フラウンホッファー-ゲゼルシャフトツァフェルダールングデァアンゲヴァンテンフォアシュンクエー.ファオ.
• ガスバリア性フィルムおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-296015   出願人：凸版印刷株式会社
• 特開平4-088160
  
• 特開昭60-057539