特許
J-GLOBAL ID：200903081538969090
微細パターン形成用モールド及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-142263
公開番号（公開出願番号）：特開2005-327788
出願日： 2004年05月12日
公開日（公表日）： 2005年11月24日
要約：
【課題】 半導体表面に精度の高い微細パターンを形成するために使用可能な生産性の高い微細パターン形成用モールド及びその製造方法を提供する。【解決手段】 半導体基板表面に微細パターンを転写すべくモールド11c本体の表面に凹凸11d、11eを形成した微細パターン形成用モールドにおいて、凹凸11d、11eが形成されるモールド本体を石英ガラスで形成すると共に、その凹凸11d、11e側のモールド11c表面に光触媒作用を有する薄膜15aを形成した微細パターン形成用モールド7及びその製造方法である。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
半導体基板表面に微細パターンを転写すべくモールド本体の表面に凹凸を形成した微細パターン形成用モールドにおいて、上記凹凸が形成されるモールド本体を石英ガラスで形成すると共に、その凹凸側のモールド表面に光触媒作用を有する薄膜を形成したことを特徴とする微細パターン形成用モールド。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, G03F7/20 501
2H097AA20
, 2H097LA10
, 5F046AA28
