特許

J-GLOBAL ID：200903081676731950

連続真空蒸着装置および連続真空蒸着方法

発明者： 篠原 譲司
出願人/特許権者： 石川島播磨重工業株式会社
代理人 (1件)： 堀田 実 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-295279
公開番号（公開出願番号）：特開平9-143723
出願日： 1995年11月14日
公開日（公表日）： 1997年06月03日
要約：

【要約】【課題】 被蒸着基板の巾の変動に対応しやすく、2元蒸着を行なう場合に蒸着の品質の自由度が大きい連続真空蒸着装置を提供する。【解決手段】 本発明の連続真空蒸着装置は、真空チャンバ内を連続走行する帯状の基板に基板の下方に配置されたるつぼから蒸発した蒸発材料を連続的に蒸着させる連続真空蒸着装置であって、略矩形状をしていて長手方向が基板の走行方法と平行に、かつ基板の巾方向の両端近傍に配置されたるつぼと、電子ビームの放射方向が基板の走行方向と交叉するように、基板の両側に配置され、電子ビームの照射によりるつぼ内の蒸発材料を加熱する電子銃と、るつぼの近傍に配置され、磁力線がるつぼの長手方向に副って発生して電子ビームをるつぼ内の蒸発材料に向けて偏向させる偏向磁石と、蒸発材料をるつぼの長手方向の一端に供給する蒸発材料供給装置とからなる。

請求項（抜粋）：

真空チャンバ内を連続走行する帯状の基板に基板の下方に配置されたるつぼから蒸発した蒸発材料を連続的に蒸着させる連続真空蒸着装置であって、略矩形状をしていて長手方向が基板の走行方法と平行に、かつ基板の巾方向の両端近傍に配置されたるつぼと、電子ビームの放射方向が基板の走行方向と交叉するように、基板の両側に配置され、電子ビームの照射によりるつぼ内の蒸発材料を加熱する電子銃と、るつぼの近傍に配置され、磁力線がるつぼの長手方向に副って発生して電子ビームをるつぼ内の蒸発材料に向けて偏向させる偏向磁石と、蒸発材料をるつぼの長手方向の一端に供給する蒸発材料供給装置とからなることを特徴とする連続真空蒸着装置。

IPC (2件)：

C23C 14/56 ,  C23C 14/24

FI (2件)：

C23C 14/56 A ,  C23C 14/24 V

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特公昭39-029944
  
• 連続帯状物用真空蒸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-290617   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• 真空蒸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-326766   出願人：石川島播磨重工業株式会社

審査官引用 (3件)

• 特公昭39-029944
  
• 連続帯状物用真空蒸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-290617   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• 真空蒸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-326766   出願人：石川島播磨重工業株式会社