特許
J-GLOBAL ID：200903081683354592
塗布膜形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 俊夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-386908
公開番号（公開出願番号）：特開2001-239198
出願日： 2000年12月20日
公開日（公表日）： 2001年09月04日
要約：
【要約】【課題】 例えば基板にレジスト膜などを形成する場合、塗布液の歩留まりが高くかつ均一性の高い塗布膜を形成することができ、しかも必要な膜厚を得るためのパラメ-タの設定作業を容易にすること。【解決手段】 塗布液ノズルをX方向にスキャンさせながら塗布液ノズルからレジスト液を細径の直線状に吐出して基板上に塗布し、次いで基板を塗布液ノズルに対してY方向に所定ピッチだけ移動させて同様に塗布しいわば一筆書きの要領で塗布を行う。またメモリ内にレジスト液の固形分量毎に塗布液の吐出圧と吐出流量との関係を記憶しておき、これを利用して塗布液ノズル2のスキャン速度と、基板のY方向の移動量であるピッチと、塗布液の吐出圧とのうちの2個を指定することにより残りの1個を求めるパラメ-タ設定部を設ける。またこのパラメ-タ設定部に、パラメ-タの値を実測膜厚に基づいて修正する機能を持たせる。
請求項（抜粋）：
基板を保持する基板保持部と、この基板保持部に保持された基板と対向して設けられ、当該基板に塗布液を吐出する塗布液ノズルと、この塗布液ノズルからの塗布液の吐出を制御する塗布液供給制御部と、前記塗布液ノズルをX方向に移動させるX方向駆動機構と、前記基板保持部と塗布液ノズルとを相対的にY方向に間欠的に移動させるY方向駆動機構と、前記塗布液ノズルにより基板に塗布液の塗布を行う処理条件であるパラメ-タの一部の値を指定して残りのパラメ-タの値を設定するパラメ-タ設定部と、このパラメ-タ設定部により設定されたパラメ-タの値に基づいて前記供給制御部、X方向駆動機構及びY方向駆動機構を制御するための制御信号を作成する処理手段と、を備え、前記基板保持部を停止させた状態で塗布液ノズルから塗布液を吐出させながら当該塗布液ノズルをX方向に移動させ、その後基板保持部と塗布液ノズルとを相対的にY方向に移動させ、この動作を繰り返すことにより塗布液を基板の塗布膜形成領域の全面に塗布することを特徴とする塗布膜形成装置。
IPC (8件)：
B05C 5/02
, B05C 11/10
, B05D 1/26
, B05D 7/00
, G03F 7/16 501
, H01L 21/027
, B05C 11/08
, B05D 1/40
B05C 5/02
, B05C 11/10
, B05D 1/26 Z
, B05D 7/00 H
, G03F 7/16 501
, B05C 11/08
, B05D 1/40 A
, H01L 21/30 564 Z
