特許
J-GLOBAL ID:200903081688381407
ポリオルガノシロキサン組成物
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
酒井 正己
, 加々美 紀雄
, 小松 純
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-040645
公開番号(公開出願番号):特開2008-203613
出願日: 2007年02月21日
公開日(公表日): 2008年09月04日
要約:
【課題】電子部品の絶縁材料や半導体装置における表面保護膜、層間絶縁膜、平坦化膜などの形成する際に、硬化膜の低温硬化性、デガス性、体積収縮率を良好に保ちつつ、下地基板に対する現像によるリソグラフィー特性及び加熱硬化後の接着性に優れた感光性ポリオルガノシロキサン組成物を提供すること。【解決手段】 下記(a)〜(c)成分を含むポリオルガノシロキサン組成物。(a)特定のシラノール化合物、特定のアルコキシシラン化合物を混合し、触媒の存在下、積極的に水を添加することなく重合させる方法で得られる、ポリオルガノシロキサン100質量部(b)光重合開始剤0.2〜20質量部(c)特定の有機ケイ素化合物を0.05〜20質量部【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記(a)〜(c)の各成分を含むポリオルガノシロキサン組成物。
(a)下記一般式(1)で示される少なくとも1種のシラノール化合物、及び下記一般式(2)で示される少なくとも1種のアルコキシシラン化合物を混合し、触媒の存在下、積極的に水を添加することなく重合させる方法で得られる、ポリオルガノシロキサン100質量部
IPC (6件):
G03F 7/075
, C08G 59/20
, C08G 59/40
, C08F 290/14
, G03F 7/40
, H01L 21/027
FI (7件):
G03F7/075 511
, C08G59/20
, C08G59/40
, C08F290/14
, G03F7/075 501
, G03F7/40 501
, H01L21/30 502R
Fターム (53件):
2H025AA14
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AB20
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC77
, 2H025BC83
, 2H025CA01
, 2H025CA27
, 2H025CC06
, 2H025FA15
, 2H025FA29
, 2H096AA25
, 2H096AA27
, 2H096AA28
, 2H096BA06
, 2H096BA20
, 2H096EA02
, 2H096GA03
, 2H096HA01
, 2H096JA04
, 4J036AK17
, 4J036DB27
, 4J036DB28
, 4J036FA13
, 4J036GA28
, 4J127AA03
, 4J127AA04
, 4J127AA06
, 4J127BB041
, 4J127BB081
, 4J127BB221
, 4J127BC061
, 4J127BC151
, 4J127BD321
, 4J127BD341
, 4J127BE59Y
, 4J127BE591
, 4J127BF72Y
, 4J127BF721
, 4J127BG38Y
, 4J127BG381
, 4J127CB182
, 4J127CB281
, 4J127CC131
, 4J127CC152
, 4J127CC252
, 4J127CC392
, 4J127DA28
, 4J127DA61
, 4J127FA17
, 4J127FA24
引用特許:
出願人引用 (2件)
審査官引用 (6件)
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引用文献:
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