特許
J-GLOBAL ID：200903081730775208
加水素水の製造方法及び製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 寿一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-317740
公開番号（公開出願番号）：特開2007-237161
出願日： 2006年11月24日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：
【課題】 酸化還元電位が-400mV〜-680mV、pHが中性で、120μm〜2μmの水素の微細気泡を大量に含んだ加水素水の提供。【解決手段】 両端開口の密閉管体内に、拡散室をダブルチューブ構造で設け、拡散室に厚さ10mm、孔径200メッシュ(0.074mm)のステンレス製多孔質要素を設け、密閉管体に、酸化還元電位357mV、pH7.25、水温13.2°Cの水道水を0.2MPa、水量15L/分で供給し、0.25MPa、流量0.5L/分に調整した水素ガスを供給し、原料水と混合し、多孔質要素を通過させて拡散室に拡散させて、水量10L/分、水温13.3°C、溶存水素量1.31ppm、酸化還元電位が-615mVで、直径200メッシュ(0.074mm)の微細気泡を大量に含んだ加水素水を得る。必要に応じて、この加水素水製造装置を2基以上連結する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
酸化還元電位が-400mV〜-680mVで、pHが中性で、0.5〜1.6ppmの量の水素ガスを、直径が120μm〜2μmの範囲のミリバブル、マイクロバブル、およびマイクロナノバブルの混合気泡として大量に含んだ加水素水。
IPC (3件)：
C02F 1/68
, B01F 3/04
, B01F 5/04
C02F1/68 520B
, C02F1/68 510A
, C02F1/68 530A
, B01F3/04 A
, B01F5/04
出願人引用 (1件)
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水素水を製造する装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-436591
出願人：広島化成株式会社
審査官引用 (3件)
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