特許
J-GLOBAL ID：200903081767686086
真空装置およびそのベーキング処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
青木 篤
, 鶴田 準一
, 島田 哲郎
, 水谷 好男
, 伊坪 公一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-174077
公開番号（公開出願番号）：特開2009-016073
出願日： 2007年07月02日
公開日（公表日）： 2009年01月22日
要約：
【課題】真空室内で固定された試料に対して電子ビーム鏡筒が移動する真空装置において、簡単な構成でかつ機動性を損なうことなく電子ビーム鏡筒のベーキング処理が行えるようにする。【解決手段】真空容器21と、真空容器内に設けられた電子ビーム鏡筒10と、真空容器内で電子ビーム鏡筒を移動する移動機構60a,60b,61a,61b,70,71と、真空容器内で電子ビーム鏡筒から出力される電子ビームを照射する試料Sを保持する試料保持部22と、を備える真空装置であって、移動機構により移動される電子ビーム鏡筒10の移動範囲の周辺部に設けられ、電子ビーム鏡筒を加熱する加熱手段80を、備える。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
真空容器と、
前記真空容器内に設けられた電子ビーム鏡筒と、
前記真空容器内で、前記電子ビーム鏡筒を移動する移動機構と、
前記真空容器内で、前記電子ビーム鏡筒から出力される電子ビームを照射する試料を保持する試料保持部と、を備える真空装置であって、
前記移動機構により移動される前記電子ビーム鏡筒の移動範囲の周辺部に設けられ、前記電子ビーム鏡筒を加熱する加熱手段を、備えることを特徴とする真空装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
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