特許
J-GLOBAL ID:200903081811293631

プロジェクション補正方法および装置並びに放射線断層撮影装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井島 藤治 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-259921
公開番号(公開出願番号):特開2000-083946
出願日: 1998年09月14日
公開日(公表日): 2000年03月28日
要約:
【要約】【課題】 金属等によるストリークアーチファクトを除去するプロジェクション補正方法および装置並びに放射線断層撮影装置を実現する。【解決手段】 放射線による複数ビューのプロジェクションから再構成した断層像における放射線高吸収物の像につき、プロジェクションPRj1上での対応位置Piを複数ビューについてそれぞれ特定し、この位置におけるプロジェクションの高周波成分を補正し、補正後のプロジェクションで画像を再構成する。
請求項(抜粋):
放射線による複数ビューのプロジェクションから再構成した断層像における放射線高吸収物の像につき前記複数ビューのプロジェクション上での対応位置をそれぞれ特定し、前記対応位置における前記プロジェクションの高周波成分を補正する、ことを特徴とするプロジェクション補正方法。
IPC (3件):
A61B 6/03 350 ,  A61B 6/03 360 ,  G06T 1/00
FI (4件):
A61B 6/03 350 S ,  A61B 6/03 360 D ,  G06F 15/62 390 B ,  G06F 15/66 B
Fターム (10件):
4C093AA22 ,  4C093BA03 ,  4C093CA13 ,  4C093EB12 ,  4C093FD05 ,  5B057AA08 ,  5B057AA09 ,  5B057BA03 ,  5B057BA12 ,  5B057CE06
引用特許:
審査官引用 (4件)
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