特許
J-GLOBAL ID：200903081832791259
成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
渡部 温
, 宇都宮 正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-127036
公開番号（公開出願番号）：特開2005-305341
出願日： 2004年04月22日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：
【課題】 マスクを使用することなくAD法による膜パターンを形成できる、高速制御可能な成膜装置を提供する。 【解決手段】 成膜チャンバ2と、該成膜チャンバに配置され、構造物が形成される基板を保持する基板ステージ11と、成膜チャンバ内を排気する排気ポンプ15と、容器に配置された原料の粉体をガスによって吹き上げることにより、エアロゾルを生成するエアロゾル生成室1と、成膜チャンバに配置され、エアロゾル生成室によって生成されたエアロゾルを基板に向けて噴射するエアロゾル噴射ノズル12と、該エアロゾル噴射ノズルから噴射されるエアロゾルに向けてエアを噴射するサイドノズル13と、該サイドノズルにエアを供給するコンプレッサ3と、形成される膜のパターンに応じて、基板ステージの位置及びサイドノズルの動作を制御する制御部5とを含む。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
成膜室と、
前記成膜室に配置され、構造物が形成される基板を保持する可動ステージと、
前記成膜室内を排気する排気手段と、
容器に配置された原料の粉体をガスによって吹き上げることにより、エアロゾルを生成するエアロゾル生成手段と、
前記成膜室に配置され、前記エアロゾル生成手段によって生成されたエアロゾルを基板に向けて噴射することによりエアロゾルビームを形成する少なくとも1つの噴射ノズルと、
前記少なくとも1つの噴射ノズルから噴射されるエアロゾルに向けてエアを噴射し、又は、該エアロゾルを吸引する少なくとも1つの補助ノズルと、
前記少なくとも1つの補助ノズルにエアを供給し、又は、前記少なくとも1つの補助ノズルによって吸引されたエアロゾルを排気するポンプと、
形成される膜のパターンに応じて、前記可動ステージの位置と、前記少なくとも1つの補助ノズルの動作を制御する制御手段と、
を具備する成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (20件)：
4D073AA01
, 4D073BB06
, 4D073DB04
, 4D073DB10
, 4D073DB12
, 4D073DB19
, 4D073DC02
, 4D073DC22
, 4F033QA01
, 4F033QB02Y
, 4F033QB05
, 4F033QB12Y
, 4F033QB18
, 4F033QD02
, 4F033QD11
, 4F033QD25
, 4F033QE05
, 4F033QH04
, 4F033QH10
, 4F033QK25Y
