特許
J-GLOBAL ID:200903046125827590
複合構造物の形成方法及び複合構造物形成装置
発明者:
,
,
,
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
小山 有
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-314446
公開番号(公開出願番号):特開2003-117450
出願日: 2001年10月11日
公開日(公表日): 2003年04月22日
要約:
【要約】【課題】 エアロゾルを連続噴射させつつ、基材への到達を制御する。【解決手段】 ノズル107と支持台109の間に遮断板112を設置し、この遮断板112は駆動装置113を動かすことによって必要に応じて挿入可能である。エアロゾルを連続的に噴射させつつ、遮断板112によってエアロゾルの基材108への到達を制御する。これによって、安定した状態のエアロゾルのみを供給することが可能であり、構造物の形状、個数に対応したマスクは必要なく、均一な形状の複数の構造物が得られる。また、複数基材上に構造物を形成させる場合においても、基材に対応したマスクは必要なく、基材以外の箇所で反射した微粒子による基材の汚染を防ぐことができる。
請求項(抜粋):
微粒子を含むエアロゾルをノズルから基材に向けて噴射させて衝突させ、前記基材表面に前記微粒子の構成材料からなる構造物を形成させる複合構造物形成方法において、前記エアロゾルを遮断する遮断手段と、前記遮断手段を移動せしめる移動手段とを設け、少なくとも噴射された前記エアロゾルが前記基材に到達しない位置に前記ノズルと前記基材が配置されているときには、前記エアロゾルを遮断する位置に前記遮断手段が移動されるように制御されることを特徴とした複合構造物形成方法。
IPC (6件):
B05B 15/04 103
, B05B 7/14
, B05D 1/12
, B05D 1/32
, B22F 3/02
, H05K 3/14
FI (6件):
B05B 15/04 103
, B05B 7/14
, B05D 1/12
, B05D 1/32 Z
, B22F 3/02 Z
, H05K 3/14 Z
Fターム (22件):
4D073AA01
, 4D073BB06
, 4D073DB04
, 4D073DB13
, 4D073DB39
, 4D073DB43
, 4D075AA01
, 4D075CA47
, 4D075DA06
, 4D075EA02
, 4D075EB01
, 4F033QA01
, 4F033QB02Y
, 4F033QB04
, 4F033QC02
, 4F033QF02Y
, 4F033QH02
, 4F033QH13
, 4K018CA44
, 5E343DD13
, 5E343ER14
, 5E343GG11
引用特許:
審査官引用 (6件)
-
特開平4-195018
-
ガスデポジション方法およびその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-205893
出願人:真空冶金株式会社
-
成膜装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-125878
出願人:株式会社村田製作所
-
薄膜製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-066706
出願人:工業技術院長, 新技術事業団
-
半導体製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-303646
出願人:三菱電機株式会社
-
特開昭61-218811
全件表示
前のページに戻る