特許
J-GLOBAL ID：200903081923960380

塗布装置および塗布装置における基板の位置調整方法

発明者：
村井 正幸

村井 正幸 について

, 
高村 幸宏

高村 幸宏 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 松阪 正弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-005954
公開番号（公開出願番号）：特開2007-185609
出願日： 2006年01月13日
公開日（公表日）： 2007年07月26日
要約：
【課題】主走査方向のノズルの軌跡と2つの撮像部との位置関係を容易かつ高精度に求める。【解決手段】塗布装置1では、位置調整用基板上に主走査方向に塗布された有機EL液のラインが第1撮像部191および第2撮像部192により撮像されて撮像部ずれ量が求められ、撮像部ずれ量に基づいて第1撮像部191および第2撮像部192の副走査方向の位置調整が行われる。そして、第1撮像部191および第2撮像部192により製品用の基板9を撮像して基板9のノズル17に対する相対位置が調整される。塗布装置1では、第1撮像部191および第2撮像部192において撮像領域への塗布からの撮像遅延時間を等しくすることにより、主走査方向におけるノズル17の移動の軌跡と第1撮像部191および第2撮像部192との位置関係を容易かつ精度に求めることができる。その結果、ノズル17に対する基板9の相対位置を高精度に調整することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、 基板を保持する基板保持部と、 前記基板に向けて流動性材料を連続的に吐出するノズルと、 前記ノズルを前記基板の主面に対して平行な主走査方向に相対的に移動する主走査機構と、 前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記ノズルに対して前記主走査方向に垂直な副走査方向に相対的に移動する副走査機構と、 前記基板保持部を前記主面に垂直な回転軸を中心に回転する基板回転機構と、 前記基板保持部の上方において前記主走査方向に略平行に配列されるとともに前記基板保持部に保持された基板上の第1撮像領域および第2撮像領域をそれぞれ撮像する第1撮像部および第2撮像部と、 前記第1撮像部および前記第2撮像部を制御することにより、位置調整用基板上に塗布された流動性材料のラインの前記第1撮像領域に含まれる部位を、前記流動性材料の前記第1撮像領域への塗布後から所定の撮像遅延時間が経過した時点にて撮像して第1画像として記憶するとともに、前記ラインの前記第2撮像領域に含まれる部位を、前記流動性材料の前記第2撮像領域への塗布後から前記撮像遅延時間が経過した時点にて撮像して第2画像として記憶する撮像制御部と、 前記第1画像および前記第2画像に基づいて前記第1撮像部と前記第2撮像部との間の前記副走査方向に関するずれ量を求めるずれ量演算部と、 前記第1撮像部および前記第2撮像部により取得された前記基板保持部に保持された基板の画像、並びに、前記ずれ量演算部により求められた前記ずれ量に基づいて前記副走査機構および前記回転機構を制御することにより前記基板の前記ノズルに対する相対位置を調整する基板位置調整部と、 を備えることを特徴とする塗布装置。
IPC (5件)：
B05C 5/00 ,  B05C 13/02 ,  B05C 11/00 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50
FI (5件)：
B05C5/00 101 ,  B05C13/02 ,  B05C11/00 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (18件)：
3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB01 ,  4F041BA13 ,  4F041BA22 ,  4F041BA34 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042AA10 ,  4F042BA08 ,  4F042DF01 ,  4F042DF15 ,  4F042DF32 ,  4F042DH09
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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